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三星首次將EUV技術應用于DRAM生產

作者: 時間:2020-03-26 來源:SEMI大半導體產業(yè)網 收藏

據ZDnet報道,宣布,已成功將技術應用于的生產中。

本文引用地址:http://www.bjwjmy.cn/article/202003/411363.htm

已經出貨了100萬個使用工藝制造的10nm級DDR4 模塊,并得到了客戶的評估。表示,評估工作完成后,將為明年大規(guī)模生產新的鋪平道路。

三星在平澤工廠的專用V2生產線將于下半年開始生產DRAM模塊。該生產線預計將生產4代10nm級DDR5和LPDDR5。

這是平澤工廠除7nm邏輯芯片外又一使用EUV技術生產的芯片,三星稱,EUV技術將使其單個12英寸晶圓的生產效率提升一倍。

三星、英特爾和臺積電等全球半導體制造商預計都將擴大EUV技術在芯片生產中的應用。三星此前曾表示,計劃利用EUV技術生產3nm芯片。 



關鍵詞: 三星 EUV DRAM

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