荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設(shè)備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續(xù)制程中導入。

路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現(xiàn)有最昂貴設(shè)備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設(shè)備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。

臺積電技術(shù)開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強表示，即便不使用High-NA EUV設(shè)備，A14制程仍能實現(xiàn)顯著的技術(shù)升級。 「因此，我們的技術(shù)團隊將持續(xù)專注于微縮（scaling）效益的開發(fā)，并致力于延長現(xiàn)有Low-NA EUV（低數(shù)值孔徑極紫外光）微影設(shè)備的使用壽命?！?/p>

張曉強坦言：「只要我們能持續(xù)找到替代方案，就沒有必要采用這款昂貴的設(shè)備?！故聦嵣?，早在去年，張曉強就曾公開表示，他對High-NA EUV技術(shù)抱持肯定態(tài)度，但對其價格感到卻步。

相較之下，臺積電競爭對手英特爾，已經(jīng)計劃在未來制程「14A」當中，使用High-NA EUV機臺，并且試圖藉此來振興晶圓代工事業(yè)，提升對臺積電的競爭力。 然而，英特爾也強調(diào)，客戶仍然可以選擇使用舊款且經(jīng)過驗證的技術(shù)。

阿斯麥執(zhí)行長福凱特（Christophe Fouquet）日前在法說會上提到，預計客戶將于2026年至2027年間進行高NA設(shè)備的量產(chǎn)準備測試，屆時業(yè)界才有可能考慮在最先進的制程中全面導入。

目前，阿斯麥已向三家客戶交付總共5臺高NA設(shè)備，包括英特爾、臺積電以及韓國三星。 這機臺重達180噸、體積如同雙層巴士，堪稱全球最昂貴的半導體制造設(shè)備之一。