據(jù)韓國媒體報導(dǎo)，針對日前日本經(jīng)濟(jì)新聞發(fā)布的全球性半導(dǎo)體3大龍頭三星電子(SamsungElectronics)、英特爾(Intel)、東芝(Toshiba)將共同研發(fā)次世代半導(dǎo)體制造技術(shù)等相關(guān)新聞內(nèi)容，三星方面已鄭重否認(rèn)。

　　日本經(jīng)濟(jì)新聞10月29日報導(dǎo)三星、東芝和英特爾等將設(shè)立國際性研究組織，至2016年共同研究開發(fā)半導(dǎo)體線幅縮減至10奈米的制程技術(shù)。報導(dǎo)中指出，該企劃是由東芝主導(dǎo)，并由參與的日本業(yè)者出資100億日圓(約1.2億美元)進(jìn)行，其中日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省也將資助50億日圓補(bǔ)助金。然而三星方面對該相關(guān)報導(dǎo)已慎重否認(rèn)，并謹(jǐn)慎防范此舉被擴(kuò)大解釋的可能性。

　　三星相關(guān)人員表示，相信半導(dǎo)體相關(guān)業(yè)者皆將積極研究開發(fā)次世代微細(xì)制程，然三星未曾公開表示將與日本方面共同開發(fā)相關(guān)設(shè)備及材料。報導(dǎo)內(nèi)容看起來是日方的相關(guān)計劃，但三星方面至2016年為止并無特定計劃及相關(guān)發(fā)表內(nèi)容。