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中微在泛林科技專利訴訟中第四次獲勝

—— 證明了中微在全球范圍內尊重知識產權的堅定承諾
作者: 時間:2012-01-05 來源:半導體制造 收藏

  半導體設備有限公司(AMEC)宣布,在由美國泛林科技在臺灣針對關聯(lián)公司提起的訴訟中再次取得勝利。

本文引用地址:http://www.bjwjmy.cn/article/127811.htm

  去年12月29日,臺灣智慧財產法院(IP Court)作出判決,維持了由臺灣經濟部智慧財產局(TIPO)作出的不利于泛林科技的決定。臺灣智慧財產法院在判決中支持了臺灣經濟部智慧財產局的立場,宣布泛林科技的專利號為126873的臺灣專利(聚焦環(huán)裝置專利)由于缺乏新穎性和創(chuàng)造性而無效,因而無法構成指控中微侵權的依據(jù)。

  法庭的宣判標志著中微在泛林科技指控中微專利侵權的糾紛案中第四次取得了重大勝利,并且進一步證明了中微在全球范圍內尊重知識產權的堅定承諾。

  中微公司首席執(zhí)行官尹志堯博士說道:“在泛林科技針對中微 Primo D-RIE? 產品的核心技術領域發(fā)起的專利侵權訴訟中,中微再一次有力地澄清了指控。盡管有泛林科技法律訴訟的干擾,但中微的業(yè)務仍然穩(wěn)步發(fā)展??蛻粽谶M一步認識到中微可單臺獨立操作的雙臺反應器刻蝕機設備獨特的設計、穩(wěn)定的性能和成本上的顯著優(yōu)勢。我們的首要任務是,通過提供最佳的刻蝕設備,幫助客戶達到日益增強的、更有挑戰(zhàn)性的技術指標。”



關鍵詞: 中微 半導體

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