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Intel 14A工藝至關(guān)重要!2025年之后穩(wěn)定領(lǐng)先

  • 這幾年,Intel以空前的力度推進(jìn)先進(jìn)制程工藝,希望以最快的速度反超臺(tái)積電,重奪領(lǐng)先地位,現(xiàn)在又重申了這一路線,尤其是意欲通過未來的14A 1.4nm級(jí)工藝,在未來鞏固自己的領(lǐng)先地位。目前,Intel正在按計(jì)劃實(shí)現(xiàn)其“四年五個(gè)制程節(jié)點(diǎn)”的目標(biāo),Intel 7工藝、采用EUV極紫外光刻技術(shù)的Intel 4和Intel 3均已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。其中,Intel 3作為升級(jí)版,應(yīng)用于服務(wù)器端的Sierra Forest、Granite Rapids,將在今年陸續(xù)發(fā)布,其中前者首次采用純E核設(shè)計(jì),最多288個(gè)。In
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瞄準(zhǔn)AI需求:臺(tái)積電在美第二座晶圓廠制程升級(jí)至2nm

  • 最新消息,臺(tái)積電官網(wǎng)宣布,在亞利桑那州建設(shè)的第二座晶圓廠制程工藝將由最初計(jì)劃的3nm升級(jí)為更先進(jìn)的2nm,量產(chǎn)時(shí)間也由2026年推遲到了2028年。2022年12月6日,在臺(tái)積電亞利桑那州第一座晶圓廠建設(shè)兩年多之后宣布建設(shè)第二座晶圓廠。在今年一季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上,CEO魏哲家提到這一座晶圓廠已經(jīng)封頂,最后的鋼梁已經(jīng)吊裝到位。對(duì)于將第二座晶圓廠的制程工藝由最初計(jì)劃的3nm提升到2nm,臺(tái)積電CEO魏哲家在一季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上也作出了回應(yīng),他表示是為了支持AI相關(guān)的強(qiáng)勁需求。在OpenAI訓(xùn)練
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地震對(duì)全球芯片產(chǎn)業(yè)的沖擊

  • 今年4月初,中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)發(fā)生近25年來的最大地震,引發(fā)了全球各行業(yè)的關(guān)注,特別是半導(dǎo)體行業(yè),甚至有媒體發(fā)文稱:全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈抖音臺(tái)灣地震而亮起紅燈。為什么這么說呢?我們知道,全球最大的半導(dǎo)體代工廠臺(tái)積電就位于臺(tái)灣省,其向世界各大半導(dǎo)體公司供貨,特別是蘋果、英偉達(dá)和高通等頭部公司,如果負(fù)責(zé)全球半導(dǎo)體代工產(chǎn)量近七成的臺(tái)灣生產(chǎn)線出現(xiàn)問題,那么不排除全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈崩潰的可能性。目前評(píng)估結(jié)果顯示,此次強(qiáng)震對(duì)臺(tái)積電核心代工生產(chǎn)設(shè)施和DRAM(一種半導(dǎo)體存儲(chǔ)器)生產(chǎn)線未造成嚴(yán)重影響,讓外界稍稍松了口氣。但有分析認(rèn)為
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2026年,中國(guó)大陸IC晶圓產(chǎn)能將躍居全球第一

  • 根據(jù)Knometa Research的數(shù)據(jù)顯示,2026年,中國(guó)大陸將超越韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣,成為IC晶圓產(chǎn)能的領(lǐng)先地區(qū),而歐洲的份額將繼續(xù)下降。中國(guó)大陸一直在領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)的芯片制造能力上進(jìn)行大量投資,并將從除美洲以外的所有其他地區(qū)獲取市場(chǎng)份額。此外,KnometaResearch預(yù)計(jì),2024年全球IC晶圓產(chǎn)能年增長(zhǎng)率為4.5%,2025年和2026年增長(zhǎng)率分別為8.2%和8.9%。截至2023年底,中國(guó)大陸在全球晶圓月產(chǎn)能中的份額為19.1%,落后韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣幾個(gè)百分點(diǎn)。預(yù)計(jì)到2025年,中國(guó)大陸的產(chǎn)能份額
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臺(tái)積電3月份營(yíng)收超過60億美元 同比增長(zhǎng)34%

  • 4月10日,臺(tái)積電公布的2024年3月營(yíng)收?qǐng)?bào)告顯示,合并營(yíng)業(yè)收入約為1952.11億新臺(tái)幣(折合約61.05億美元),環(huán)比增長(zhǎng)7.5%,同比增長(zhǎng)34.3%,同比增長(zhǎng)率是時(shí)隔15個(gè)月再次超過30%,上一次還是2022年的11月份,那一個(gè)月他們營(yíng)收2227.06億新臺(tái)幣,同比增長(zhǎng)50.2%。(2022年也是臺(tái)積電營(yíng)收高漲的一年,全年?duì)I收同比大增42.6%,最高的一個(gè)月同比增長(zhǎng)65.3%,最低的一個(gè)月也有18.5%,有5個(gè)月的營(yíng)收同比增長(zhǎng)超過50%。)公布的數(shù)據(jù)顯示,一季度營(yíng)收約為新臺(tái)幣5926.44億元(折合
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晶合集成5000萬(wàn)像素BSI量產(chǎn)

  • 繼90納米CIS和55納米堆棧式CIS實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)之后,晶合集成CIS再添新產(chǎn)品。近期,晶合集成55納米單芯片、高像素背照式圖像傳感器(BSI)迎來批量量產(chǎn),極大賦能智能手機(jī)的不同應(yīng)用場(chǎng)景,實(shí)現(xiàn)由中低端向中高端應(yīng)用跨越式邁進(jìn)。晶合集成規(guī)劃CIS產(chǎn)能將在今年內(nèi)迎來倍速增長(zhǎng),出貨量占比將顯著提升, 成為顯示驅(qū)動(dòng)芯片之外的第二大產(chǎn)品主軸。近年來,5000萬(wàn)像素CIS已在智能手機(jī)配置上加速滲透。晶合集成與國(guó)內(nèi)設(shè)計(jì)公司合作,基于自主研發(fā)的55納米工藝平臺(tái),使用背照式工藝技術(shù)復(fù)合式金屬柵欄,不僅提升了產(chǎn)品進(jìn)光量,還兼具高
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臺(tái)積電:設(shè)備復(fù)原率已超70%,主要機(jī)臺(tái)皆無受損情況

  • 據(jù)多方媒體報(bào)道,近日,中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)花蓮縣發(fā)生多次地震,其中最大震級(jí)為7.3級(jí)。對(duì)于地震所造成影響,臺(tái)積電對(duì)媒體表示,臺(tái)積公司在臺(tái)灣的晶圓廠工安系統(tǒng)正常,為確保人員安全,據(jù)公司內(nèi)部程序啟動(dòng)相關(guān)預(yù)防措施,部分廠區(qū)在第一時(shí)間進(jìn)行疏散,人員皆平安并在確認(rèn)安全后回到工作崗位。雖然部分廠區(qū)的少數(shù)設(shè)備受損并影響部分產(chǎn)線生產(chǎn),主要機(jī)臺(tái)包含所有極紫外(EUV)光刻設(shè)備皆無受損。臺(tái)積電還表示,在地震發(fā)生后10小時(shí)內(nèi),晶圓廠設(shè)備的復(fù)原率已超過70%,新建的晶圓廠(如晶圓十八廠)的復(fù)原率更已超過80%。目前正與客戶保持密切溝通,
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2027年300mm晶圓廠設(shè)備支出可望達(dá)1370億美元新高

  • 近日,SEMI發(fā)布《300mm晶圓廠2027年展望報(bào)告(300mm Fab Outlook Report to 2027) 》指出,由于內(nèi)存市場(chǎng)復(fù)蘇以及對(duì)高效能運(yùn)算和汽車應(yīng)用的強(qiáng)勁需求,全球用于前端設(shè)施的300mm晶圓廠設(shè)備支出預(yù)估在2025年首次突破1000億美元,到2027年將達(dá)到1370億美元的歷史新高。全球300mm晶圓廠設(shè)備投資預(yù)計(jì)將在2025年成長(zhǎng)20%至1165億美元,2026年將成長(zhǎng)12%至1305億美元,將在2027年創(chuàng)下歷史新高。SEMI總裁兼首席執(zhí)行官Ajit Manoch
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英國(guó)首座12英寸晶圓廠啟用

  • 近日,英國(guó)半導(dǎo)體公司Pragmatic Semiconductor正式啟用其位于達(dá)勒姆(Durham)的最新工廠。該公司表示,這是英國(guó)首個(gè)生產(chǎn)300毫米半導(dǎo)體芯片的工廠。Pragmatic Park預(yù)期將在未來五年內(nèi)創(chuàng)造500個(gè)高技能工作崗位,并加強(qiáng)英國(guó)的科技生態(tài)系統(tǒng)。該公司還聲稱,相較傳統(tǒng)硅芯片生產(chǎn),該公司的生產(chǎn)過程更環(huán)保,耗能和水量更少,二氧化碳排放也顯著降低。Pragmatic總部設(shè)于英國(guó)劍橋,首間工廠位于達(dá)勒姆南部的Sedgefield。Pragmatic的柔性芯片技術(shù)廣泛應(yīng)用于智能封裝,這種于采
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300mm晶圓廠設(shè)備支出明年將首次突破1000億美元

  • 全球應(yīng)用于前道工藝的 300mm 晶圓廠設(shè)備投資,預(yù)計(jì)將在 2025 年首次突破 1000 億美元。
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紅外鏡頭SWIR系列在硅晶圓共位貼合技術(shù)中的應(yīng)用

  • 硅晶圓共位貼合如有圖所示是一種用于半導(dǎo)體芯片精密對(duì)準(zhǔn)和鍵合到基板上的先進(jìn)技術(shù),該技術(shù)利用短波紅外 (SWIR) 光實(shí)現(xiàn)高精度定位和高效鍵合。目前常見的芯片貼合工藝芯片對(duì)芯片 (CoC):將芯片直接粘合到其他芯片上,可通過焊接、粘合劑或直接鍵合等方式實(shí)現(xiàn);芯片對(duì)晶圓 (CoW):將芯片粘合到晶圓上,類似于CoC,但晶圓比芯片大得多。CoW常用于創(chuàng)建堆疊芯片,可提升性能或功能;晶圓對(duì)晶圓 (WoW):將晶圓直接粘合到其他晶圓上,是最復(fù)雜的工藝,用于創(chuàng)建三維集成電路 (3
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ASML前CTO,加入ASM

  • 近日,ASM International NV(ASM)宣布提名Martin van den Brink為其監(jiān)事會(huì)成員。Martin van den Brink的任命將于5月13日提交給年度股東大會(huì)。據(jù)介紹,1984年,Martin van den Brink以工程師身份加入當(dāng)時(shí)新成立的ASML,并于1995年成為技術(shù)副總裁(CTO)。1999年,他被任命為ASML管理委員會(huì)成員,2013年,他被任命為首席技術(shù)官。在擔(dān)任公司領(lǐng)導(dǎo)期間,他是推動(dòng)ASML發(fā)展和技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)鍵,這些創(chuàng)新幫助塑造了整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)。
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瘋狂的碳化硅,國(guó)內(nèi)狂追!

  • 近幾日,英飛凌在碳化硅合作與汽車半導(dǎo)體方面合作動(dòng)態(tài)頻頻,再度引起業(yè)界對(duì)碳化硅材料關(guān)注。1月23日,英飛凌與Wolfspeed宣布擴(kuò)大并延伸現(xiàn)有的長(zhǎng)期150mm碳化硅晶圓供應(yīng)協(xié)議(原先的協(xié)議簽定于2018年2月)。延伸后的合作將包括一個(gè)多年期產(chǎn)能預(yù)留協(xié)議。這將有助于保證英飛凌整個(gè)供應(yīng)鏈的穩(wěn)定,同時(shí)滿足汽車、太陽(yáng)能、電動(dòng)汽車充電應(yīng)用、儲(chǔ)能系統(tǒng)等領(lǐng)域?qū)τ谔蓟璋雽?dǎo)體不斷增長(zhǎng)的需求。據(jù)英飛凌科技首席執(zhí)行官 JochenHanebeck 消息,為了滿足不斷增長(zhǎng)的碳化硅器件需求,英飛凌正在落實(shí)一項(xiàng)多供應(yīng)商戰(zhàn)略,從而在
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英飛凌與Wolfspeed延長(zhǎng)多年期碳化硅150mm晶圓供應(yīng)協(xié)議

  • 據(jù)外媒,1月23日,英飛凌與美國(guó)半導(dǎo)體制造商Wolfspeed發(fā)布聲明,宣布擴(kuò)大并延長(zhǎng)雙方2018年2月簽署的現(xiàn)有150mm碳化硅晶圓長(zhǎng)期供應(yīng)協(xié)議。根據(jù)聲明,雙方延長(zhǎng)的的合作關(guān)系中包括一項(xiàng)多年期產(chǎn)能預(yù)留協(xié)議。新協(xié)議有助于提高英飛凌總體供應(yīng)鏈的穩(wěn)定性,同時(shí)滿足汽車、太陽(yáng)能和電動(dòng)汽車應(yīng)用以及儲(chǔ)能系統(tǒng)對(duì)碳化硅晶圓產(chǎn)品日益增長(zhǎng)的需求。英飛凌科技首席執(zhí)行官Jochen Hanebeck表示,希望在全球范圍內(nèi)保障對(duì)于150mm和200mm碳化硅晶圓的高品質(zhì)、長(zhǎng)期供應(yīng)優(yōu)質(zhì)貨源。
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SiC生長(zhǎng)過程及各步驟造成的缺陷

  • 眾所周知,提高 SiC 晶圓質(zhì)量對(duì)制造商來說非常重要,因?yàn)樗苯記Q定了 SiC 器件的性能,從而決定了生產(chǎn)成本。然而,具有低缺陷密度的 SiC 晶圓的生長(zhǎng)仍然非常具有挑戰(zhàn)性。SiC 晶圓制造的發(fā)展已經(jīng)完成了從100毫米(4英寸)到150毫米(6英寸)晶圓的艱難過渡,正在向8英寸邁進(jìn)。SiC 需要在高溫環(huán)境下生長(zhǎng),同時(shí)具有高剛性和化學(xué)穩(wěn)定性,這導(dǎo)致生長(zhǎng)的 SiC 晶片中晶體和表面缺陷的密度很高,導(dǎo)致襯底質(zhì)量和隨后制造的外延層質(zhì)量差?。本篇文章主要總結(jié)了?SiC 生長(zhǎng)過程及各步驟造成的缺陷
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晶圓介紹

晶圓  晶圓是指硅半導(dǎo)體積體電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。晶圓的原始材料是硅,而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經(jīng)由電弧爐提煉,鹽酸氯化,并經(jīng)蒸餾后,制成了高純度的多晶硅,其純度高達(dá)99.999999999%。晶圓制造廠再將此多晶硅融解,再于融液里種入籽晶,然后將其慢慢拉出,以形成圓柱狀的單晶硅 [ 查看詳細(xì) ]

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