碳化硅 mosfet 文章 進入碳化硅 mosfet技術(shù)社區(qū)
三極管用飽和Rce,而MOSFET用飽和Vds?

- MOSFET和三極管,在ON 狀態(tài)時,MOSFET通常用Rds,三極管通常用飽和Vce。那么是否存在能夠反過來的情況,三極管用飽和Rce,而MOSFET用飽和Vds呢?MOSFET和三極管,在ON 狀態(tài)時,MOSFET通常用Rds,三極管通常用飽和Vce。那么是否存在能夠反過來的情況,三極管用飽和Rce,而MOSFET用飽和Vds呢?三極管ON狀態(tài)時工作于飽和區(qū),導通電流Ice主要由Ib與Vce決定,由于三極管的基極驅(qū)動電流Ib一般不能保持恒定,因而Ice就不能簡單的僅 由Vce來決定,即不能采用飽和Rc
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中國電科55所高性能高可靠碳化硅MOSFET成功通過技術(shù)鑒定
- 近日,中國電科55所牽頭研發(fā)的“高性能高可靠碳化硅MOSFET技術(shù)及應(yīng)用”成功通過技術(shù)鑒定。鑒定委員會認為,該項目技術(shù)難度大,創(chuàng)新性顯著,總體技術(shù)達到國際先進水平。該項目聚焦新能源汽車、光伏儲能、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅芨呖煽刻蓟鐼OSFET器件自主創(chuàng)新的迫切需求,突破多項關(guān)鍵工藝技術(shù),貫通碳化硅襯底、外延、芯片、模塊全產(chǎn)業(yè)鏈量產(chǎn)平臺,國內(nèi)率先研制出750V/150A和6500V/25A的大電流碳化硅MOSFET器件,實現(xiàn)新能源汽車、光伏、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域碳化硅MOSFET批量供貨,有力保障碳化硅功率器件供
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碳化硅擴產(chǎn)、量產(chǎn)消息不斷,瑞薩、X-FAB跟進
- 近期,一眾國內(nèi)廠商擴產(chǎn)、量產(chǎn)碳化硅的消息頻繁發(fā)布。如博世收購了美國半導體代工廠TSI以在2030年底之前擴大自己的SiC產(chǎn)品組合;安森美半導體考慮投資20億美元擴產(chǎn)碳化硅芯片;SK集團宣布,旗下SK powertech位于釜山的新工廠結(jié)束試運行,將正式量產(chǎn)碳化硅,產(chǎn)能將擴大近3倍。除此之外,據(jù)外媒報道,日本半導體巨頭瑞薩和德國晶圓代工廠X-FAB也于近日宣布了擴產(chǎn)碳化硅的計劃。其中,瑞薩電子將于2025年開始生產(chǎn)使用碳化硅 (SiC)來降低損耗的下一代功率半導體產(chǎn)品。報道指出,按照計劃,瑞薩電子擬在目
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英飛凌碳化硅晶圓處理黑科技——冷切割

- 近兩年新能源汽車和光伏儲能市場的火熱,讓半導體供應(yīng)上升到了很多公司戰(zhàn)略層面的考慮因素。特別是SiC的供應(yīng)更加緊俏。最近幾年用戶對SiC的使用更有經(jīng)驗,逐漸發(fā)揮出了其高效率高功率密度的優(yōu)點,正在SiC使用量增大的階段,卻面臨了整個市場的缺貨的狀態(tài)。碳化硅功率器件缺貨有很多因素,目前前道是最大的瓶頸,特別是前道的“最前端” ,SiC襯底片和外延片是目前缺貨最嚴重的材料。面對這種問題,作為功率半導體的領(lǐng)頭羊英飛凌又有哪些舉措呢?一方面,英飛凌與多家晶圓廠簽訂長期供貨協(xié)議推動其碳化硅(SiC)供應(yīng)商體系多元化,保
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賓夕法尼亞州立大學與安森美簽署碳化硅諒解備忘錄

- 2023 年 5 月 17日—賓夕法尼亞州立大學與智能電源和智能感知技術(shù)的領(lǐng)先企業(yè)安森美(onsemi,美國納斯達克上市代號:ON),宣布雙方簽署了一份諒解備忘錄 (MOU),旨在開展一項總額達 800 萬美元的戰(zhàn)略合作,其中包括在賓夕法尼亞州立大學材料研究所 (MRI) 開設(shè)安森美碳化硅晶體中心 (SiC3)。未來 10 年,安森美每年都將為 SiC3 中心提供 80 萬美元的資金。?安森美和賓夕法尼亞州立大學領(lǐng)導團隊慶祝簽署諒解備忘錄 (MOU),開展總額達 800 萬美元的戰(zhàn)略合作,其中包
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SMPD先進絕緣封裝充分發(fā)揮SiC MOSFET優(yōu)勢

- SMPD可用于標準拓撲結(jié)構(gòu),如降壓、升壓、橋臂(phase-leg),甚至是定制的組合。它們可用于各種技術(shù)產(chǎn)品,如Si/SiC MOSFET、IGBT、二極管、晶閘管、三端雙向可控硅,或定制組合,具有從40V到3000V不同電壓等級。ISOPLUS - SMPD 及其優(yōu)勢SMPD代表表面安裝功率器件(Surface Mount Power Device),是先進的頂部散熱絕緣封裝,由IXYS(現(xiàn)在是Littelfuse公司的一部分)在2012年開發(fā)。SMPD只有硬幣大小,具有幾項關(guān)鍵優(yōu)勢:·
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安森美與Kempower就電動汽車充電樁達成戰(zhàn)略協(xié)議

- 2023 年 5 月 16 日—智能電源和智能感知技術(shù)的領(lǐng)導者安森美(onsemi,美國納斯達克上市代號:ON),宣布與Kempower達成戰(zhàn)略協(xié)議,將為Kempower 提供EliteSiC MOSFET和二極管,用于可擴展的電動汽車(EV)充電樁。雙方此項合作使得Kempower能采用包括安森美EliteSiC產(chǎn)品在內(nèi)的各種功率半導體技術(shù),開發(fā)電動汽車充電方案套件。這些器件將用于有源AC-DC前端以及初級側(cè)和次級側(cè)的DC-DC轉(zhuǎn)換器。 安森美為Kempower 的Satellit
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Nexperia首創(chuàng)交互式數(shù)據(jù)手冊,助力工程師隨時隨地分析MOSFET行為

- 奈梅亨,2023年5月11日:基礎(chǔ)半導體器件領(lǐng)域的高產(chǎn)能生產(chǎn)專家Nexperia今天宣布推出與功率MOSFET配套使用的新一代交互式數(shù)據(jù)手冊,大幅提升了對半導體工程師的設(shè)計支持標準。通過操作數(shù)據(jù)手冊中的交互式滑塊,用戶可以手動調(diào)整其電路應(yīng)用的電壓、電流、溫度和其他條件,并觀察器件的工作點如何動態(tài)響應(yīng)這些變化。 這些交互式數(shù)據(jù)手冊使用Nexperia的高級電熱模型計算器件的工作點,可有效地為電路仿真器提供一種圖形用戶界面。此外,工程師借助這些交互式數(shù)據(jù)手冊可以即時查看柵極電壓、漏極電流、RDS(o
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MOSFET電路不可不知

- MOSFET已成為最常用的三端器件,給電子電路界帶來了一場革命。沒有MOSFET,現(xiàn)在集成電路的設(shè)計似乎是不可能的。它們非常小,制造過程非常簡單。由于MOSFET的特性,模擬電路和數(shù)字電路都成功地實現(xiàn)了集成電路,MOSFET電路可以從大信號模型小信號模型兩種方式進行分析。大信號模型是非線性的。它用于求解器件電流和電壓的de值。小信號模型可以在大信號模型線性化的基礎(chǔ)上推導出來。截止區(qū)、三極管區(qū)和飽和區(qū)是MOSFET的三個工作區(qū)。當柵源電壓(VGS)小于閾值電壓(Vtn)時,器件處于截止區(qū)。當MOSFET用作
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SiC MOSFET的設(shè)計挑戰(zhàn)——如何平衡性能與可靠性

- 碳化硅(SiC)的性能潛力是毋庸置疑的,但設(shè)計者必須掌握一個關(guān)鍵的挑戰(zhàn):確定哪種設(shè)計方法能夠在其應(yīng)用中取得最大的成功。先進的器件設(shè)計都會非常關(guān)注導通電阻,將其作為特定技術(shù)的主要基準參數(shù)。然而,工程師們必須在主要性能指標(如電阻和開關(guān)損耗),與實際應(yīng)用需考慮的其他因素(如足夠的可靠性)之間找到適當?shù)钠胶?。?yōu)秀的器件應(yīng)該允許一定的設(shè)計自由度,以便在不對工藝和版圖進行重大改變的情況下適應(yīng)各種工況的需要。然而,關(guān)鍵的性能指標仍然是盡可能低的比電阻,并結(jié)合其他重要的參數(shù)。圖1顯示了我們認為必不可少的幾個標準,或許還
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基本半導體車規(guī)級碳化硅芯片產(chǎn)線正式通線
- 4月24日,基本半導體車規(guī)級碳化硅芯片產(chǎn)線通線儀式在深圳市光明區(qū)舉行。此次車規(guī)級碳化硅芯片產(chǎn)線的成功通線,是基本半導體打造國產(chǎn)碳化硅功率器件IDM領(lǐng)先企業(yè)的一大重要戰(zhàn)略布局。據(jù)官微介紹,基本半導體車規(guī)級碳化硅芯片產(chǎn)線項目獲得國家工信部的產(chǎn)業(yè)專項支持,并連續(xù)兩年入選深圳市年度重大項目,廠區(qū)面積13000平方米,配備光刻、氧化、激活、注入、薄膜、刻蝕等專業(yè)設(shè)備,主要產(chǎn)品為6英寸碳化硅MOSFET晶圓等,產(chǎn)線達產(chǎn)后每年可保障約50萬輛新能源汽車的相關(guān)芯片需求。項目通過打造垂直整合制造模式,加快設(shè)計、制造共同迭代
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電科材料6英寸碳化硅外延片產(chǎn)業(yè)化取得重大進展
- 近日,電科材料6英寸碳化硅外延片產(chǎn)業(yè)化工作取得重大進展,6英寸中高壓碳化硅外延片月產(chǎn)能力實現(xiàn)大幅提升。碳化硅外延片,指在碳化硅襯底上生長了一層有一定要求的、與襯底晶向相同的單晶薄膜的碳化硅片,是用于制造高性能半導體器件的關(guān)鍵材料。電科材料持續(xù)布局第三代半導體外延材料研發(fā)生產(chǎn),實現(xiàn)一系列技術(shù)突破,在碳化硅外延領(lǐng)域,完成6英寸3300V碳化硅外延材料研發(fā)。同時,積極與國產(chǎn)設(shè)備廠商合作開發(fā)生產(chǎn)裝備,推動碳化硅核心裝備國產(chǎn)化。未來,電科材料將持續(xù)創(chuàng)新突破,推出更多高端碳化硅材料產(chǎn)品。
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碳化硅 mosfet介紹
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