10月16日消息，近日，關(guān)于晶圓代工廠力積電赴日本建設(shè)12英寸晶圓廠計(jì)劃迎來(lái)新進(jìn)展。最新的傳聞顯示，力積電日本12英寸晶圓廠將會(huì)落腳于日本三重縣，與鄰近的工業(yè)大城名古屋、聯(lián)電日本廠區(qū)連接成半導(dǎo)體新聚落，等待日本官方補(bǔ)助案落實(shí)后，該項(xiàng)目就將正式啟動(dòng)。

據(jù)了解，相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備廠近期傳出消息稱(chēng)，力積電與日本 SBI 控股株式會(huì)社（簡(jiǎn)稱(chēng)“SBI”）合作的日本新廠將選址在三重縣，主要原因有兩個(gè)方面：一個(gè)是工業(yè)大城名古屋就在隔壁，不論是原材料或晶圓出口都具備交通優(yōu)勢(shì)。第二，聯(lián)電此前收購(gòu)富士通半導(dǎo)體12英寸晶圓廠USJC，正好位于三重縣桑名市，代表當(dāng)?shù)匾丫邆浒雽?dǎo)體晶圓制造人才，若選在此地則具備產(chǎn)業(yè)群聚效應(yīng)，不論是在招募人力或材料進(jìn)出口都已有一定基礎(chǔ)，可讓建廠與生產(chǎn)更順利。

今年7月，力積電就宣布與SBI達(dá)成協(xié)議，雙方計(jì)劃攜手在日本境內(nèi)建設(shè) 12 吋晶圓代工廠，結(jié)合日本政府及產(chǎn)業(yè)資源，共同參與日本強(qiáng)化半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的發(fā)展計(jì)劃。

力積電預(yù)期，在日本合作設(shè)立的晶圓廠將會(huì)基于22／28nm制程，加上晶圓堆疊（Wafer on Wafer）技術(shù)，以應(yīng)對(duì)未來(lái)AI市場(chǎng)需求發(fā)展。外媒日前也披露，力積電與SBI合作的日本新廠將獲日本政府補(bǔ)助1,400億日元。

據(jù)了解，力積電與SBI合作在日本設(shè)廠，將會(huì)循多年前力積電在大陸官方合作設(shè)立的晶合集成模式，即由力積電提供建廠及產(chǎn)線營(yíng)運(yùn)等經(jīng)驗(yàn)，待一切上軌道后，才會(huì)逐步淡出合作設(shè)立的晶圓廠，后續(xù)可能以持股模式參與在日本合設(shè)的晶圓廠。

編輯：芯智訊-浪客劍