3nm finfet 文章 最新資訊
小米雷軍:芯片團隊已具備相當強的研發(fā)設計實力
- 5 月 27 日消息,小米創(chuàng)辦人、董事長兼 CEO 雷軍今日早發(fā)文:“玄戒 O1 最高主頻 3.9GHz,這足以說明我們芯片團隊已經具備相當強的研發(fā)設計實力。”官方數(shù)據(jù)顯示,小米玄戒 O1 處理器安兔兔跑分超過了 300 萬分,擁有 190 億個晶體管,采用了全球最先進的 3nm 工藝,芯片面積僅 109mm2。架構方面,小米玄戒 O1 采用了十核四叢集 CPU,擁有雙超大核、4 顆性能大核、2 顆能效大核、2 顆超級能效核,超大核最高主頻 3.9Hz,單核跑分超 3000 分,多核跑分超 9
- 關鍵字: 小米 雷軍 芯片 玄戒 O1 處理器 ARM 3nm
小米自研3nm“大芯片”已開始大規(guī)模量產

- 今天,小米集團董事長雷軍微博宣布小米自主研發(fā)設計的3nm制程手機處理器芯片玄戒O1已開始大規(guī)模量產,搭載小米玄戒O1兩款旗艦,小米手機15s pro和小米OLED平板Pad 7 ultra。小米將成為繼蘋果、高通、聯(lián)發(fā)科后,全球第四家發(fā)布自主研發(fā)設計3nm制程手機處理器芯片的企業(yè)。今年2月,聯(lián)發(fā)科技CEO蔡力行第四季度財報會議上表示,小米自研手機SoC芯片或將外掛聯(lián)發(fā)科基帶芯片。根據(jù)他的透露,ARM和小米正在促成一項AP芯片的研發(fā)項目,聯(lián)發(fā)科也有參與,并提供調制解調器芯片。此前據(jù)外媒WCCFtech報道,
- 關鍵字: 小米 自研 3nm 芯片
小米確認推3nm SoC,承諾10 年內投69億美元開發(fā)芯片
- 小米最近在宣布其自主開發(fā)的智能手機 SoC 芯片 XRING 01 后引起了廣泛關注。據(jù)中國媒體《明報》報道,小米首席執(zhí)行官雷軍 5 月 19 日在微博上透露,該芯片采用 3nm 工藝制造,這標志著中國公司首次成功實現(xiàn) 3nm 芯片設計的突破。這家中國科技巨頭正在加大其芯片開發(fā)力度。據(jù)《華爾街日報》報道,小米計劃在至少 10 年內投資近 70 億美元用于芯片設計。創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官雷軍周一在微博上發(fā)文透露了這一投資數(shù)字。報告指出,小米發(fā)言人補充說,這項 500 億元人民幣(相當于 69.4 億美元)的投資
- 關鍵字: 小米 3nm SoC
或有多個版本!又有小米自研芯跑分曝光:10核3nm設計、超驍龍8 Gen 3
- 5月20日消息,雷軍之前已經宣布了小米自研芯片玄戒O1,而它可能只是一個代號,最終的成品或許會有多個版本。如果熟悉芯片設計的朋友應該都清楚,廠商在規(guī)劃一款芯片設計時,必然會有多款相關版本的衍生,所以這更像是一個大類,而非具體到一個型號。有網友發(fā)現(xiàn),Geekbench 6.1.0上出現(xiàn)了小米新機的跑分成績,而主板信息顯示為"O1_asic",從跑分上看,該機的單核跑分最高 2709、多核跑分8125,比高通驍龍8 Gen 3 的成績還要高一些,可以說表現(xiàn)亮眼。跑分頁面還顯示,該處理器的C
- 關鍵字: 小米 自研芯 10核 3nm 超驍龍8 Gen 3
雷軍發(fā)文確認:小米玄戒O1采用第二代3nm工藝制程
- 5月19日,雷軍微博宣布小米自主研發(fā)設計的3nm制程手機處理器芯片玄戒O1即將亮相。小米將成為繼蘋果、高通、聯(lián)發(fā)科后,全球第四家發(fā)布自主研發(fā)設計3nm制程手機處理器芯片的企業(yè)?;仡櫫诵∶椎谝淮匝惺謾CSoC“澎湃S1”的失敗經歷,從2014年9月立項,到2017年正式發(fā)布,“因為種種原因,遭遇挫折”,暫停了SoC大芯片的研發(fā),轉向了“小芯片”路線。包含了快充芯片、電池管理芯片、影像芯片、天線增強芯片等“小芯片”,在不同技術賽道中慢慢積累經驗和能力。直到2021年初,小米宣布造車的同時,還在內部重啟“大芯片
- 關鍵字: 小米 玄戒 3nm SoC 芯片
Finwave籌集820萬美元短期投資以推動市場發(fā)展
- 美國馬薩諸塞州沃爾瑟姆的 Finwave Semiconductor Inc 宣布了一輪新的 $8.2m 短期投資,由 Fine Structure Ventures、Engine Ventures 和 Safar Partners 領投,技術合作伙伴 GlobalFoundries 戰(zhàn)略參與。Finwave 認為,新一輪融資表明投資者和行業(yè)領導者對其獨特的硅基氮化鎵技術的市場潛力充滿信心,因為它正在從以技術為中心的創(chuàng)新者轉變?yōu)楫a品驅動型公司。這家科技公司由麻省理工學院 (MIT) 的研究人員于 2012
- 關鍵字: Finwave 短期投資 GaN FinFET
“最后也是最好的FINFET節(jié)點”
- 在該公司的北美技術研討會上,臺積電業(yè)務發(fā)展和海外運營辦公室高級副總裁兼聯(lián)合首席運營官 Kevin Zhang 稱其為“最后也是最好的 finfet 節(jié)點”。臺積電的策略是開發(fā) N3 工藝的多種變體,創(chuàng)建一個全面的、可定制的硅資源。“我們的目標是讓集成芯片性能成為一個平臺,”Zhang 說。 截至目前,可用或計劃中 N3 變體是:N3B:基準 3nm 工藝。N3E:成本優(yōu)化的版本,具有更少的 EUV 層數(shù),并且沒有 EUV 雙重圖形。它的邏輯密度低于 N3,但具有更好的良率。N3P:N3E 的增強版本,在相
- 關鍵字: FINFET TSMC
臺積電公布N2 2nm缺陷率:比3/5/7nm都要好
- 4月26日消息,在近日舉辦的北美技術論壇上,臺積電首次公開了N2 2nm工藝的缺陷率(D0)情況,比此前的7nm、5nm、3nm等歷代工藝都好的多。臺積電沒有給出具體數(shù)據(jù),只是比較了幾個工藝缺陷率隨時間變化的趨勢。臺積電N2首次引入了GAAFET全環(huán)繞晶體管,目前距離大規(guī)模量產還有2個季度,也就是要等到年底。N2試產近2個月來,缺陷率和同期的N5/N4差不多,還稍微低一點,同時顯著優(yōu)于N7/N6、N3/N3P。從試產到量產半年的時間周期內,N7/N6的綜合缺陷率是最高的,N3/N3P從量產開始就低得多了,
- 關鍵字: 臺積電 N2 2nm 缺陷率 3nm 5nm 7nm
3nm finfet介紹
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