光刻機 文章 最新資訊
佳能推出晶圓測量機新品 MS-001：比光刻機精度更高，可提高生產(chǎn)效率
- IT之家 2 月 21 日消息，在邏輯、存儲器、CMOS 傳感器等尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，制造工藝日趨復(fù)雜，半導(dǎo)體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測量的對準(zhǔn)測量點也越來越多。如果在半導(dǎo)體光刻機中對數(shù)量眾多的測量點進行對準(zhǔn)測量的話，測量本身會非常耗時，進而就會降低半導(dǎo)體光刻機的生產(chǎn)效率。為此，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進了晶圓測量機，將半導(dǎo)體光刻機的對準(zhǔn)測量功能分離出來，以此來確保生產(chǎn)的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半導(dǎo)體制造用晶圓測量機“MS-001”，該
- 關(guān)鍵字： 佳能 光刻機
淺析中美芯片博弈——美國加碼對華為禁令，ASML DUV光刻機對華出口或有變
- 2019年，無論從那個角度來說，都是最好的一年。在那一年的智能手機消費市場中，手機品牌競爭激烈，紛紛拿出了不少產(chǎn)品力很強的產(chǎn)品，三星、華為、蘋果分別位列全球前三。這一年，是手機市場巔峰，也是華為最強盛的時期，這一年，華為全年智能手機出貨量高達2.4億臺，超越蘋果，緊逼三星；這一年，華為的營收高達8588億人民幣，其中智能手機為主的消費者業(yè)務(wù)貢獻了4673億人民幣，占到了一半以上的營收比例，是華為最大的營收來源，賺錢能力強?？梢簿褪沁@一年，美國開始了對華貿(mào)易戰(zhàn)，開始了對于華為的全面打壓，首先，谷歌禁止了華為
- 關(guān)鍵字： 華為 芯片 光刻機 ASML
光刻機龍頭ASML公布2022全年財報佳績，預(yù)計2023年凈銷售額同比增長超25%
- 當(dāng)?shù)貢r間，2023年1月25日，荷蘭光刻機龍頭ASML發(fā)布了2022年第四季度和全年業(yè)績。2022年第四季度的凈銷售額為64億歐元，達到了預(yù)期目標(biāo)區(qū)間中位，毛利率為51.5%，高于預(yù)期。同時，毛利率還受到去年ASML柏林工廠火災(zāi)導(dǎo)致的額外升級和保險賠償影響。2022年全年ASML總凈銷售額為212億歐元，毛利率為50.5%，凈利潤為56億歐元。另外，2022年底，ASML未交付訂單創(chuàng)下歷史新高，達404億歐元，該年總共銷售317臺新光刻機，較前一年增長31臺，此外還出貨了28臺二手光刻機。展望未來，ASM
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML
EUV光刻機開始“落幕”了
- 說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導(dǎo)致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML DUV EUV
消息稱光刻機巨頭 ASML 臺灣地區(qū)新工廠明年 7 月動工
- IT之家 12 月 7 日消息，據(jù)臺灣地區(qū)經(jīng)濟日報報道，光刻機巨頭 ASML 將擴大在臺灣地區(qū)的投資。ASML 臺灣地區(qū)新工廠預(yù)計將在明年 7 月動工，是該公司在當(dāng)?shù)氐淖畲笸顿Y，并計劃把歐洲供應(yīng)鏈帶到臺灣地區(qū)。臺媒指出，ASML 帶來的歐洲供應(yīng)鏈將會落地林口工一研發(fā)中心、桃園龜山兩處，未來不排除以相同模式陸續(xù)在新竹、臺中、臺南落地。此外，ASML 帶來的主要為設(shè)備維修及組裝。數(shù)據(jù)顯示，2022 年第三季度，ASML 實現(xiàn)了凈銷售額 58 億歐元（約 425.72 億元人民幣），毛利率為
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML
三星首次引進本土生產(chǎn)光刻膠，日本稱霸該市場
- 12 月 4 日消息，據(jù) ETNews 消息，三星電子首次引入東進世美肯半導(dǎo)體的光刻膠進入其量產(chǎn)線，這也是三星進行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。不過考慮到三星與海外光刻膠供應(yīng)商的關(guān)系，目前具體產(chǎn)量尚不清楚，且三星是否會額外引進其他品種的光刻膠也并沒有得到回應(yīng)。報道稱，三星電子已將韓國公司開發(fā)的用于高科技工藝的極紫外光刻膠（PR）引入其大規(guī)模生產(chǎn)線。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韓國出口包括含氟聚酰亞胺、光刻膠以及高純度氟化氫在內(nèi)的三項重要半導(dǎo)體及 OLED 面板原材料，經(jīng)過三年的努力，韓國實現(xiàn)了光刻
- 關(guān)鍵字： 三星 光刻機 光刻膠
有多貴？ASML新EUV光刻機單臺硬件造價2500億：可買三臺頂級航母
- 都知道光刻機單臺成本非常的貴，但是你知道有多貴嗎？一臺數(shù)億美元的光刻機讓我們看到了一款硬件設(shè)備的價格極限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時透露，他們正在全力研制劃時代的新光刻機high-NA EUV設(shè)備，而高NA EUV光刻機系統(tǒng)的單臺造價將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。這個價格什么概念，一搜頂級航母的價格差不多在100億美元左右，而這臺硬件設(shè)備可以買三艘頂級航母，而ASML目前在售的雙工件臺EUV光刻機不過數(shù)億美元，作為下一代產(chǎn)品身價
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML EUV
ASML參展第五屆進博會 以開放與專注助力行業(yè)合作共贏
- （中國上海，2022年11月4日）—— 今年，半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商ASML將以“光刻未來，攜手同行”為主題繼續(xù)亮相第五屆中國國際進口博覽會（以下簡稱“進博會”）技術(shù)裝備展區(qū)4.1展館A0-01展臺。屆時，ASML將首次通過“元宇宙”平臺，帶來沉浸式的光刻體驗，彰顯前沿科技，推動行業(yè)發(fā)展。 “今年是ASML第四次參展進博會，我們希望借助進博會的平臺不斷地展現(xiàn)開放共贏、合作發(fā)展的理念。”ASML全球高級副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示，“ASML一直秉持開放與專注，以‘開放式創(chuàng)新’和對光刻技術(shù)的專注，持
- 關(guān)鍵字： ASML 進博會 光刻機
芯片巨頭美光：成功繞過了EUV光刻技術(shù)
- 本周美光宣布，采用全球最先進1β(1-beta)制造工藝的DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)送樣給部分手機制造商、芯片平臺合作伙伴進行驗證，并做好了量產(chǎn)準(zhǔn)備?！ ?β工藝可將能效提高約15％，存儲密度提升35％以上，單顆裸片(Die)容量高達16Gb(2GB)?！ ∫粋€值得關(guān)注的點是，美光稱，1β繞過了EUV（極紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）?！ ∵@意味著相較于三星、SK海力士，美光需要更復(fù)雜的設(shè)計方案。畢竟，DRAM的先進性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導(dǎo)體的能力，各公司目
- 關(guān)鍵字： 美光 DRAM 內(nèi)存芯片 光刻機 EUV
摩爾定律不死 臺積電已在謀劃1nm工藝：下代EUV光刻機是關(guān)鍵
- 在先進工藝上，臺積電今年底量產(chǎn)3nm工藝，2025年則是量產(chǎn)2nm工藝，這一代會開始使用GAA晶體管，放棄現(xiàn)在的FinFET晶體管技術(shù)?！ ≡偻竽兀?nm之后是1.4nm工藝，Intel、臺積電及三星這三大芯片廠商也在沖刺，其中三星首個宣布2027年量產(chǎn)1.4nm工藝，臺積電沒說時間點，預(yù)計也是在2027年左右?！ ?.4nm之后就是1nm工藝了，這個節(jié)點曾經(jīng)被認為是摩爾定律的物理極限，是無法實現(xiàn)的，但是現(xiàn)在芯片廠商也已經(jīng)在攻關(guān)中?！ ∨_積電已經(jīng)啟動了先導(dǎo)計劃，傳聞中的1nm晶圓廠將落戶新竹科技園下
- 關(guān)鍵字： 光刻機 臺積電 摩爾定律 1nm
2028年自研7nm光刻機！俄羅斯真有這個能耐？
- 2028年實現(xiàn)光刻機自研，可支持7nm芯片制造！俄羅斯真有這個能耐？在芯片規(guī)則不斷的升級之下，各個國家不再相信基于美技術(shù)體系的國際產(chǎn)業(yè)鏈，而中、俄是產(chǎn)業(yè)被限制最嚴(yán)重的國家，因此在技術(shù)的自研上反應(yīng)也是最強烈的，在中企相繼傳出好消息之后，俄科學(xué)院也官宣了好消息。根據(jù)海外傳來的消息，俄科學(xué)院IPF RAS已經(jīng)全力參與光刻設(shè)備的研發(fā)，后續(xù)將會有整套的半導(dǎo)體設(shè)備誕生，并且其還高調(diào)宣稱：“自研的光刻機將在2028年商用，并且可用于7nm左右的芯片量產(chǎn)！”這就讓人納悶了，目前俄國依靠自主化的產(chǎn)業(yè)鏈，就連90nm工藝都無
- 關(guān)鍵字： 光刻機 俄羅斯
ASML：有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機
- 近期，全球半導(dǎo)體龍頭設(shè)備企業(yè)阿斯麥（ASML）、泛林（LAM）公布了其最新一季度財報，阿斯麥方面，最新一季度銷售額和利潤均超出市場預(yù)期，其新的凈預(yù)訂額也創(chuàng)下了紀(jì)錄。此外阿斯麥CEO Peter Wennink表示，ASML有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機；泛林方面，當(dāng)季公司營收創(chuàng)下歷史新高，官方表示，2023年晶圓廠設(shè)備支出將下滑。ASML：有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機10月19日，光刻機大廠阿斯麥公布了2022年第三季度財報。數(shù)據(jù)顯示，ASML第三季度凈營收同比增長10%至58億歐元，超出此前業(yè)界預(yù)
- 關(guān)鍵字： ASML EUV 光刻機 泛林
精度遠超EVU！美企造出全球分辨率最高的光刻機
- 芯研所9月26日消息，近日美國開發(fā)和商業(yè)化原子精密制造技術(shù)公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系統(tǒng)——ZyvexLitho1TM。它沒有采用EUV光刻技術(shù)，而是基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是電子束光刻（EBL）方式。實現(xiàn)了0.768nm的原子級精密圖案和亞納米級分辨率芯片的制造，遠超EVU光刻機的精度。目前，5nm級及以下的尖端半導(dǎo)體制程必須采用EUV光刻機，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻機，售價或?qū)⒏哌_4億美元。但想要實現(xiàn)1nm以下更先進
- 關(guān)鍵字： 光刻機 美國
光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email:
網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
www.chihoc [ 查看詳細 ]
光刻機相關(guān)帖子
光刻機資料下載
光刻機專欄文章
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473