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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻機

制作一顆硅晶圓需要多少種半導體設備?光刻機僅僅是九牛一毛

  • 硅晶圓制造需要的設備遠遠不止這些,制造硅晶圓的難度不亞于航空母艦。之所以光刻機的關(guān)注度超越了其它半導體設備,這是由于它的技術(shù)難度是最高的,目前僅有荷蘭和美國等少數(shù)國家擁有核心技術(shù)。
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國產(chǎn)光刻機真的這么厲害嗎?這些光刻機知識您得知道

  •   近日,中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收。消息傳著傳著,就成了謠言——《國產(chǎn)光刻機偉大突破,國產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖,彎道超車》《厲害了我的國,新式光刻機將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋!  關(guān)于光刻機,這些知識您得知道  光刻機不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復的圖案,都可以用光刻——就像照相,圖像投在感光底片上,蝕掉一部分。半個多世紀前,美國人用這個原理“印刷”電路,從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。為了節(jié)能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻機越做越極
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拒絕技術(shù)壟斷 國產(chǎn)首臺超分辨光刻機技術(shù)淺析

  •   2018年11月29日,一則名為“寬刀雕細活 我國造出新式光刻機”的消息刷爆網(wǎng)絡,援引自新聞中的消息,我們可以看到,由我國中科院光電技術(shù)研究所承擔的國家重大科研裝備研制項目“超分辨率裝備研制”通過驗收。很多人振奮的原因在于這是我國自行研制的世界首臺利用紫外光源實現(xiàn)22nm分辨率的光刻機,這意味著我國在微電子技術(shù)領域再次邁出了堅實的一步,縮小了與全球在該領域的差距。在祝賀偉大祖國的同時,我們總結(jié)了一下目前關(guān)于這方面的學術(shù)研究,為大家淺析該技術(shù)讓所有國人為之震動,舉國歡慶的原因。    何為光刻機? 
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刷屏的“國產(chǎn)光刻機”是真牛還是吹牛?

  • 拋開唯恐天下不亂的非專業(yè)、有偏差的報道,也排除可能光電所有意或無意的誤導,也許我們在未來很長一段時間內(nèi)都無法打破ASML的壟斷,但是也需冷靜看待成果,為實質(zhì)進步鼓掌。既不吹??浯螅膊涣晳T偏見,更無需妄自菲薄。
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點亮中國“芯”,這件專利會是國產(chǎn)光刻機的錦鯉嗎?

  • 中美貿(mào)易大戰(zhàn)把當今最先進的半導體產(chǎn)業(yè)推上了風口浪尖上,整個產(chǎn)業(yè)鏈上,國內(nèi)半導體芯片的產(chǎn)業(yè)發(fā)展就卡在IC制造這一塊上了。
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AMSL的光刻機如何能賣上億美元?

  • 在晶圓加工設備中,光刻機所占的投資比高達30%,同時一臺AMSL的EUV光刻機售價上億美元,當我國企業(yè)有足夠能力參與到與國際巨頭競爭之時,即是芯片技術(shù)迎頭趕上的那一天。
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ASML看好中國市場 最先進光刻機將入華

  •   中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加,他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?! ”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德,格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進工藝的研發(fā),但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂觀?! 〈饲坝邢⒅赋?,中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機,預計明年交付,用于7nm節(jié)點?! ⊥瑫r,傳統(tǒng)的沉浸式光刻機方面,沈波稱,今年下半年ASML已開始出貨家族最先進的NXT:2000i,很快會在中國市場上也見到
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迫于美國政府壓力,光刻機巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國員工 ...

  •   在高科技領域,美國這一年來加強了對中國人的防范,不只限于美國本土,就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力,荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?! ≡诠饪虣C領域,荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機市場,在EUV光刻機中更是獨一份,7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機。在高科技領域,美國這一年來加強了對中國人的防范,不只限于美國本土,就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力,荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?! ∪绻f半導體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠,那么光刻機可以說是皇冠上的明珠,因為光刻機是半導體制造中最關(guān)
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ASML出貨新光刻機NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工藝

  •   據(jù)外媒報道,光刻機霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i雙工件臺深紫外光刻機),可用于7nm和5nm節(jié)點?! XT:2000i將是NXE:3400B EUV光刻機的有效補充,畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。  同時,NXT:2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品,達到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)?! SML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
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華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進沉浸式光刻機:邁向14nm

  •   中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來一臺EUV極紫外光刻機,未來可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片,長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機,同樣來自ASML,不過是193nm沉浸式,用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓,7200萬美元一臺?! ?jù)集微網(wǎng)報道, 5月21日上午,在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū),華虹集團旗下上海華力集成電路制造有限公司建設和營運的12英寸先進生產(chǎn)線建設項目(“華虹六廠”)實現(xiàn)首臺工藝設備光刻機搬入?! ∵@臺光刻機的型號是NXT 1980Di,依然是荷蘭ASML提
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探秘中國通信芯片那些事:行業(yè)中流砥柱

  • 中美經(jīng)貿(mào)關(guān)系開始緩和,未來在高科技領域的合作將更多,競爭也將更加激烈。
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價值7200萬美元,長江存儲首臺光刻機運抵武漢

  •   長江存儲的首臺光刻機已于今天中午運抵武漢天河機場,設備相關(guān)的海關(guān)、商檢及邊防口岸的相關(guān)手續(xù)辦理完成后,即可運至長江存儲的工廠。據(jù)集微網(wǎng)獨家消息,這臺光刻機為ASML的193nm浸潤式光刻機,售價7200萬美元,用于14nm~20nm工藝。這也從側(cè)面透露了長江存儲3D NAND閃存芯片的工藝制程。這是長江存儲的第一臺光刻機,陸續(xù)還會有多臺運抵?! D:ASML的光刻機安全降落武漢天河機場,正在卸貨中  在今年的4月5日,長江存儲首批400萬美元的精密儀器開始進場安裝,標志著國家存儲器基地從廠房建設階段進
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這些“細節(jié)”讓中國難望頂級光刻機項背

  • 真正的核心技術(shù)靠化緣是要不來的。我們還有多少亟待攻克的關(guān)鍵核心技術(shù),差距在哪,需要從哪些方面突破?
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上海微電子采購Bumotec機床 加速中國光刻機研發(fā)

  •   去年,一臺價值1.06億元設備經(jīng)空運從荷蘭飛抵廈門,由于該設備價值高,而且對保存和運輸有著很高的要求——保存溫度必須保持在23攝氏度恒溫狀態(tài)下,為了避免影響設備的精度,在運輸中也對穩(wěn)定性有極高的要求。因此,機場海關(guān)以機坪查驗的方式對該貨物實行全程機邊監(jiān)管,待貨物裝入特制溫控氣墊車后移至海關(guān)的機坪視頻監(jiān)控探頭之下,在完成緊急查驗后當晚就放行。   沒錯,這臺設備就是荷蘭ASML的光刻機。鐵流猜測,這臺設備很有可能是廈門當?shù)卣c臺灣聯(lián)華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購的。
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半導體廠商無不識君 聊一聊隱形大佬ASML

  • ASML是集合了西方光學應用科學與半導體尖端制造設備技術(shù)于一體的科技龐然大物,它的影響力是任何一個國家在半導體領域都無法忽視的。
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光刻機介紹

國外半導體設備 我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺, 金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。 濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機,300毫米清洗機,。 如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細 ]

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