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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 光刻機(jī)

光刻機(jī)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)接近世界先進(jìn)水平，9nm線寬光刻實(shí)現(xiàn)突破

  • 　　SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡(jiǎn)稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 　　根據(jù)這項(xiàng)合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購(gòu)的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國(guó)的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 　　光刻機(jī)被稱
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耗費(fèi)巨資購(gòu)買EUV光刻機(jī) 臺(tái)積電有何打算？

  • 臺(tái)積電、三星與英特爾之間先進(jìn)制程的戰(zhàn)局依舊如火如荼的展開，三方比拼毫不手軟。
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片內(nèi)相位測(cè)量工具模擬光刻機(jī)

  • 關(guān)鍵字：片內(nèi)相位測(cè)量 模擬光刻機(jī)采用特殊照明方式的高/超高數(shù)值孔徑（NA）的193nm光刻機(jī)和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的極限達(dá)到了32nm節(jié)點(diǎn)。不利的因素是掩膜的復(fù)雜度正在以指數(shù)級(jí)遞增，而業(yè)界又迫切需要
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ASML TWINSCAN系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)新的里程碑

  • 　　ASML近日宣布，兩位使用TWINSCAN 光刻機(jī)的芯片制造商實(shí)現(xiàn)了生產(chǎn)新紀(jì)錄，即在24小時(shí)內(nèi)實(shí)現(xiàn)了超過(guò)4000片晶圓的處理。這個(gè)里程碑記錄是在XT:870和XT:400上實(shí)現(xiàn)的，兩家使用者為亞洲的不同客戶。設(shè)備幫助他們提高了300mm光刻生產(chǎn)能力。 　
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沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺 臺(tái)系內(nèi)存芯片廠制程升級(jí)受阻

  • 　　據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺，因此臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購(gòu)的這種設(shè)備的時(shí)間 可能會(huì)再后延12個(gè)月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對(duì)這些廠商轉(zhuǎn)移到38nm以上級(jí)別制程至關(guān)重要，因此預(yù)計(jì)臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商制程轉(zhuǎn)換的進(jìn)度 會(huì)受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開發(fā)的沉浸式光刻機(jī)，可用于制造12英寸32nm及以上級(jí)別制程的產(chǎn)品. 　　此前曾有報(bào)道稱 NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經(jīng)被拉長(zhǎng)到了將近12個(gè)月，
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Imec和ASML共同驗(yàn)證用于沉浸式光刻的新型照明系統(tǒng)

  • 　　Imec和ASML已合作驗(yàn)證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統(tǒng)FlexRay，通過(guò)22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應(yīng)用價(jià)值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i掃描光刻設(shè)備將安裝FlexRay產(chǎn)品，幫助imec進(jìn)一步開拓沉浸式光刻技術(shù)的應(yīng)用。
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ASML Q2業(yè)績(jī)創(chuàng)新高 6套EUV設(shè)備將交貨

  • 　　ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷售達(dá)到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價(jià)值1,179 million 歐元，包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項(xiàng)數(shù)據(jù)均較2010年Q1有所提高。 　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice認(rèn)為，Q2銷售的強(qiáng)勁增長(zhǎng)證明了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近期對(duì)于光刻設(shè)備的需求，已有近20套NXT:1950i 設(shè)備運(yùn)出。所有ASML的先進(jìn)NXT光刻機(jī)都包括了一個(gè)或多個(gè)一體化光刻部件。對(duì)于下一代將要應(yīng)用于20nm以下節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品，E
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09尼康Nikon光刻機(jī)銷售下降

  • 　　Nikon的09半導(dǎo)體設(shè)備銷售額與08年相比下降31.7%為16億美元。 　　09年虧損6,32億美元, 相比于08年盈利8600萬(wàn)美元。其中半導(dǎo)體用光刻機(jī)銷售數(shù)量下降40%及LCD用光刻機(jī)下降30%。 　　按路透社報(bào)道,日本尼康公司計(jì)劃在2011年3月底結(jié)算的年度中, 銷售半導(dǎo)體用光刻機(jī)48臺(tái), 相比09年的36臺(tái),及LCD用光刻機(jī)58臺(tái), 相比09年的45臺(tái)。
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全球存儲(chǔ)器短缺的三個(gè)理由

  • 　　2010年全球存儲(chǔ)器可能出現(xiàn)供應(yīng)缺貨，而且非?？赡軙?huì)延續(xù)下去。為什么?可能有三個(gè)原因，1)，存儲(chǔ)器市場(chǎng)復(fù)蘇;2)，前幾年中存儲(chǔ)器投資不足;3)，由ASML供應(yīng)的光刻機(jī)交貨期延長(zhǎng)。 　　巴克菜投資公司的分析師 Tim Luke在近期的報(bào)告中指出，通過(guò)存儲(chǔ)器的食物供應(yīng)鏈看到大量的例證，認(rèn)為目前存儲(chǔ)器供應(yīng)偏緊的局面將持續(xù)2010整年，甚至延伸到2011年。 　　據(jù)它的報(bào)告稱，2010年全球NAND閃存的位增長(zhǎng)可達(dá)70%，而2009增長(zhǎng)為41%。2010年全球DRAM的位增長(zhǎng)達(dá)52%。 　　Luke認(rèn)為
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半導(dǎo)體設(shè)備制造商面臨六大挑戰(zhàn)

  • 　　2009年對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備制造商是不可忘懷之年。所有制造商都受到危機(jī)的影響，但是2010年半導(dǎo)體工業(yè)正處于恢復(fù)之中，然而設(shè)備制造商仍面臨眾多的挑戰(zhàn)。 　　在SEMI主辦的ISS會(huì)上Globalfoundries的fab2總經(jīng)理 Norm Armour列出設(shè)備制造商面臨的六大挑戰(zhàn)。 　　1 兼并加劇 　　由于在有的設(shè)備類中仍有4-5家制造商，所以兼并將加劇。當(dāng)然也有如光刻機(jī)，僅剩下兩家，但是CVD，PVD，Etch仍顯太多。 　　2 光刻機(jī)價(jià)格高聳 　　用在光刻上的投資越來(lái)越大(一臺(tái)193nm浸
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半導(dǎo)體業(yè)衰退重創(chuàng)設(shè)備業(yè)

  • 　　在全球金融危機(jī)影響下，半導(dǎo)體業(yè)正進(jìn)入前所未遇的嚴(yán)重衰退時(shí)期，半導(dǎo)體固定資產(chǎn)投資在2008年下降27.3%基礎(chǔ)上，2009年將再下降34.1%。綜合分析各大分析機(jī)構(gòu)的預(yù)測(cè)數(shù)據(jù)，2009年全球半導(dǎo)體業(yè)年銷售額的下降幅度將在15%到20%之間。 　　半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)受災(zāi)最重 　　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中設(shè)備業(yè)受到的影響相對(duì)最為嚴(yán)重。依Gartner公司的官方數(shù)據(jù)顯示，全球半導(dǎo)體業(yè)固定資產(chǎn)投資兩年來(lái)逐漸下滑，2007年為592億美元，2008年下降了27.3%，為490億美元，而09年將再次下降34.1%，為323億美
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KLA-Tencor推出可解決二次成像挑戰(zhàn)的首款計(jì)算光刻機(jī)

  • 　　KLA-Tencor 公司（納斯達(dá)克股票代碼：KLAC）今天推出其領(lǐng)先業(yè)界的最新版計(jì)算光刻機(jī) PROLITH 11。這種新型光刻機(jī)讓用戶首次得以評(píng)估當(dāng)前的二次成像方案，并以較低的成本針對(duì)光刻在設(shè)計(jì)、材料與制程開發(fā)等方面挑戰(zhàn)，嘗試不同的解決方案。這種新型計(jì)算光刻機(jī)還支持單次成像和浸沒技術(shù)。 　　KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經(jīng)理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復(fù)雜性及實(shí)驗(yàn)成本的大幅增加，電路設(shè)計(jì)師與芯片制造商不得不面對(duì)二次成像光刻所帶來(lái)的挑戰(zhàn)。計(jì)算光刻已成為控制這
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中芯國(guó)際今年將進(jìn)全球45納米"俱樂(lè)部"

  • 　　中芯國(guó)際正悄悄從海外進(jìn)口關(guān)鍵設(shè)備，欲搶在今年年底試產(chǎn)45納米芯片，從而進(jìn)入全球半導(dǎo)體代工業(yè)45納米的“俱樂(lè)部”。 　　消息人士對(duì)《第一財(cái)經(jīng)日?qǐng)?bào)》透露，29日中芯國(guó)際上海12英寸廠采購(gòu)浸潤(rùn)式光刻機(jī)已到位，“這標(biāo)志著中芯國(guó)際在量產(chǎn)45納米芯片方面有了生產(chǎn)保障。” 　　天價(jià)光刻機(jī)悄悄到廠 　　本報(bào)獲悉，這是中國(guó)大陸的第一臺(tái)浸潤(rùn)式光刻機(jī)，該設(shè)備由荷蘭ASML生產(chǎn)，后者是全球這一領(lǐng)域的第一大供應(yīng)商。上述消息人士透露，由于光刻機(jī)屬高精密設(shè)備，為防止震動(dòng)，從機(jī)場(chǎng)
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光刻機(jī)介紹

國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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