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na euv 文章 最新資訊

在EUV光刻技術上，日本公司壟斷了光刻膠的供應

  • 雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導體光刻技術，但是毫無疑問，這就是光刻技術的未來。與任何未來一樣，它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸，并使它們更加節(jié)能。這
  • 關鍵字： EUV  光刻膠  

斥資440億元采購EUV光刻機？臺積電：不評論傳聞

  • 9月30日訊，此前有媒體報道，由于先進制程推進順利和訂單量擴大，臺積電將加大EUV光刻機的采購力度，預計到2021年底采購量為55臺左右。臺積電方面回復稱：公司不評論市場傳聞。據(jù)了解，一臺EUV光刻機售價近8億元，55臺EUV光刻機價值約440億元。相關閱讀：臺積電明年底前將累計采購55臺EUV光刻機：花費超440億元出處：快科技 作者：萬南芯片制程已經推進到了7nm以下，這其中最關鍵的核心設備就要數(shù)EUV光刻機了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。來自Digitimes的報道稱，臺積電打算在
  • 關鍵字： EUV  光刻機  臺積電  

華為+中科院攻關EUV光刻機？ASML華裔工程師：天方夜譚

  • 9月16日，中國科學院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱，“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此，首先要進行體制機制改革。他稱，目前已經設立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學中心和特色所四類機構，目的是根據(jù)科研性質不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置?！斑@個工作還沒有完，只是進行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構全部做完，
  • 關鍵字： 華為  中科院  EUV  光刻機  ASML  

10億元一臺EUV光刻機！芯片產能數(shù)量曝光：夠華為手機用嗎？

  • 相信大家都知道，在前幾天，ASML重磅官宣了一條大新聞，正式在中國寶島臺灣建設了第一家海外培訓中心—亞洲培訓中心，這家培訓中心標配了14名培訓技師，一年大約可以培養(yǎng)超過360名EUV光刻機操作工程師，能夠讓芯片生產加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機，從而可以進一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其實ASML在臺灣建設這座亞洲培訓中心，最大的目的就是為了直接幫助臺積電培養(yǎng)更多的光刻機操作工程師，因為在過去兩年時間里，ASML一共售賣了57臺EUV光刻機產品，其中臺積電就購得了30臺，占據(jù)著絕大部分的份額，
  • 關鍵字： 臺積電  5nm  EUV  

臺積電：5nm EUV工藝已在量產、明年推出增強版

  • 24日，臺積電舉辦了第26屆技術研討會，并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說法，5nm工藝規(guī)劃了兩代，分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV（極紫外光刻）技術，并且已經在大規(guī)模量產之中。相較于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版，仍在開發(fā)中，規(guī)劃2021年量產，相較于第一代5nm，功耗進一步降低10%、性能提升5%，據(jù)稱面向高性能計算平臺做了優(yōu)化。據(jù)手頭資料，臺積電的5nm有望應用在蘋果A14芯片（包括Apple Silicon PC處
  • 關鍵字： 臺積電  5nm  EUV  

臺積電采購30臺EUV光刻機沖刺7/5nm，ASML就近設立培訓中心

  • 臺積電在高端制程技術上沖鋒陷陣，已經成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶，累計已經購買了 30 臺 EUV 設備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術培訓中心后，也在臺積電先進制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南，成立 EUV 技術培訓中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達 180&nbs
  • 關鍵字： EUV  臺積電  ASML  

Intel/臺積電/ASML齊捧EUV光刻：捍衛(wèi)摩爾定律

  • 日前，中國國際半導體技術大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進工藝的設備，EUV技術已經被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產量已經達到1000萬片。他說，EUV已經成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
  • 關鍵字： Intel  臺積電  ASML  EUV  光刻  摩爾定律  

華為、蘋果7/5nm需求大 臺積電狂加EUV訂單

  • 2020年因為全球經濟的問題，本來電子行業(yè)會下滑，但是晶圓代工場合不降反升，臺積電Q1季度營收大漲了30%，牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大，臺積電目前正在瘋狂增加EUV產能。臺積電2018年量產了7nm工藝，不過第一代7nm沒有EUV工藝加持，2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā)，而今年的5nm工藝則會全面上馬EUV工藝。根據(jù)臺積電之前公布的數(shù)據(jù)，7nm及7nm EUV工藝目前每月的產能達到了11萬片晶圓/月，而5nm工藝的月
  • 關鍵字： 華為  蘋果  5nm  臺積電  EUV  

三星新建5nm晶圓廠：先進EUV技術 2021年投產

  • 隨著時間邁入2020年中，以臺積電和三星為代表的芯片半導體也從7nm逐步向5nm進發(fā)，實際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝，表現(xiàn)相較7nm將會更上一層樓。很明顯在7nm時代，三星是落后于臺積電的，不過這家巨頭似乎想在5nm時代彎道超車，近日據(jù)媒體報道，三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。該工廠是三星在韓國國內的第六條晶圓代工產線，將應用先進的極紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技術，拿7nmEUV工藝對比，三星5nmE
  • 關鍵字： 三星  5nm  EUV  

EUV光刻機斷貨 臺積電5nm工藝搶三星頭彩：A14/麒麟1020首發(fā)

  • 臺積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財報,營收同比大漲了42%,淡季不淡。不過接下來的日子半導體行業(yè)可能不太好過了,ASML的EUV光刻機已經斷貨,要延期交付,好在臺積電今年已經在5nm工藝上搶先三星了。根據(jù)ASML之前的報告,3月底他們下調了1季度營收預期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機也因為種種原因斷貨了,雖然訂單沒有取消,但是交付要延期了,三星、臺積電今年都不太容易快速擴張EUV產能。不過臺積電在這次危機中更有優(yōu)勢地位,他們包
  • 關鍵字： EUV  臺積電5nm  

三星首次將EUV技術應用于DRAM生產

  • 據(jù)ZDnet報道，三星宣布，已成功將EUV技術應用于DRAM的生產中。
  • 關鍵字： 三星  EUV  DRAM  

三星率先為DRAM芯片導入EUV：明年將用于DDR5/LPDDR5大規(guī)模量產

  • 當前在芯片制造中最先進的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內存顆粒的生產中。這家韓國巨頭今日宣布，已經出貨100萬第一代10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶評估，這為今后高端PC、手機、企業(yè)級服務器等應用領域開啟新大門。得益于EUV技術，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復步驟，并進一步提升產能。三星表示，將從第四代10nm級（D1a）DRAM或高端級14nm級DRAM開始全面導入EUV，明年基于D1a大規(guī)模量產DDR5和LPDDR5內存芯片，預計會使12
  • 關鍵字： 三星  DRAM  EUV  

引入EUV技術的6nm，才是真正的6nm

  • 只有引入EUV技術的6nm才是真正的6nm，而這項技術也將伴隨未來可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
  • 關鍵字： EUV  6nm  光刻機  

泛林集團發(fā)布應用于EUV光刻的技術突破

  • 近日，泛林集團發(fā)布了一項用于EUV光刻圖形化的干膜光刻膠技術。泛林集團研發(fā)的這項全新的干膜光刻膠技術，結合了泛林集團在沉積、刻蝕工藝上的領導地位及其與阿斯麥?(ASML) 和比利時微電子研究中心?(imec)?戰(zhàn)略合作的成果，它將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產率和良率。泛林集團的干膜光刻膠解決方案提供了顯著的EUV光敏性和分辨率優(yōu)勢，從而優(yōu)化了單次EUV光刻晶圓的總成本。由于領先的芯片制造商已開始將EUV光刻系統(tǒng)應用于大規(guī)模量產，進一步提升生產率和分辨率將幫助他們以更合理
  • 關鍵字： EUV  光刻  

泛林集團在提高EUV光刻分辨率、生產率和良率取得技術突破

  • 泛林集團與阿斯麥 (ASML) 和比利時微電子研究中心 (imec) 共同研發(fā)的全新干膜光刻膠技術將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產率和良率。
  • 關鍵字： 泛林  EUV  干膜光刻膠技術  
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