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三星將以6億歐元出售半導(dǎo)體設(shè)備公司ASML部分股份

  • 　　北京時(shí)間9月8日消息，據(jù)路透社報(bào)道，三星電子周四表示，將出售荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML控股的部分股份。 　　交易條款清單顯示，三星將以大約6.06億歐元出售630萬(wàn)股ASML股票。三星并未披露此次交易的財(cái)務(wù)條款。 　　三星稱，此次股份出售不會(huì)影響兩家公司的戰(zhàn)略伙伴關(guān)系。三星在8月16日提交的監(jiān)管文件中稱，公司持有1260萬(wàn)股ASML股票，持股比例為2.9%。
  • 關(guān)鍵字： 三星  ASML  

半導(dǎo)體設(shè)備大廠都在發(fā)動(dòng)強(qiáng)強(qiáng)并購(gòu)

  • 半導(dǎo)體設(shè)備廠商不只大者恒大，市占愈發(fā)傾向于大廠，如果科林與艾司摩爾并購(gòu)案順利通過，未來半導(dǎo)體設(shè)備廠商三強(qiáng)鼎立的局面或也可能出現(xiàn)。
  • 關(guān)鍵字： ASML  漢微科   

ASML最先進(jìn)EUV出貨，臺(tái)積電5納米有譜

  • 　　全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺(tái)積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺(tái)最新的EUV系統(tǒng)出貨。 　　EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備，一臺(tái)售價(jià)高達(dá)9,000 萬(wàn)歐元(約新臺(tái)幣36億元)，這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備，因此發(fā)展進(jìn)度，一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 　　臺(tái)積電共同執(zhí)行長(zhǎng)暨劉德音表示，臺(tái)積電本季將會(huì)再增購(gòu)一臺(tái)EUV設(shè)備，不過臺(tái)積電將會(huì)于5奈米制程才會(huì)導(dǎo)入生產(chǎn)
  • 關(guān)鍵字： ASML  臺(tái)積電  

ASML接獲設(shè)備大單　EUV微影商用進(jìn)展邁大步

  • 　　微影設(shè)備制造商ASML近期宣布，接獲美國(guó)一家主要客戶十五部EUV機(jī)臺(tái)訂單，并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時(shí)間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 　　極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布，該公司與美國(guó)一家主要客戶已簽屬協(xié)議書，將提供至少十五臺(tái)的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺(tái)，以支援不斷增加的制程開發(fā)活動(dòng)和未來世代制程的試量產(chǎn)。 　　雙方交易
  • 關(guān)鍵字： ASML  微影系統(tǒng)  

ASML估Q1營(yíng)收未達(dá)標(biāo)

  • 　　歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預(yù)估第1季營(yíng)收低于預(yù)期，并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統(tǒng)訂單的箝制。 　　艾司摩爾今天在聲明稿中指出，預(yù)期2014年前3個(gè)月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下，彭博社匯編12位分析師的預(yù)測(cè)均值為17.1億歐元。艾司摩爾預(yù)測(cè)毛利率42%左右，相較于調(diào)查預(yù)估中值42.5%。 　　艾司摩爾指出，首季利潤(rùn)率預(yù)測(cè)包括EUV系統(tǒng)的負(fù)面影響，若不含EUV，利潤(rùn)率將提高1.9個(gè)百分點(diǎn)。在
  • 關(guān)鍵字： ASML   半導(dǎo)體設(shè)備  

為量產(chǎn)10nm制程鋪路　ASML攜手IMEC建置APC

  • 　　艾司摩爾(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進(jìn)曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進(jìn)奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)及其設(shè)備更臻成熟，加速制程微縮技術(shù)的商用化。 　　ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)Martin van den Brink表示，長(zhǎng)期以來，該公司與IMEC的合作，已促成半導(dǎo)體制程發(fā)展不斷突破;而此次的合作案，預(yù)期將進(jìn)一步加快先進(jìn)奈米制程技術(shù)及其相關(guān)設(shè)備
  • 關(guān)鍵字： 10nm  ASML  

ASML提升新EUV機(jī)臺(tái)技術(shù)生產(chǎn)效率

  • 　　微影設(shè)備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機(jī)臺(tái)技術(shù)的生產(chǎn)效率，在2012年購(gòu)并光源供應(yīng)商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達(dá)55瓦，每小時(shí)晶圓產(chǎn)出片數(shù)為43片，預(yù)計(jì)2013年底前，可達(dá)到80瓦的目標(biāo)，2015年達(dá)250瓦、每小時(shí)產(chǎn)出125片。 　　半導(dǎo)體生產(chǎn)進(jìn)入10納米后，雖然可采用多重浸潤(rùn)式曝光方式，但在一片晶圓上要進(jìn)行多次的微影制程曝光，將導(dǎo)致生產(chǎn)流程拉長(zhǎng)，成本會(huì)大幅墊高，半導(dǎo)體大廠為
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莫大康：縮小半導(dǎo)體工藝尺寸能走多遠(yuǎn)？

  • 　　推動(dòng)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)步有兩個(gè)輪子，一個(gè)是工藝尺寸縮小，另一個(gè)是硅片直徑增大，而且總是尺寸縮小為先。由半導(dǎo)體工藝路線圖看，2013年應(yīng)該進(jìn)入14納米節(jié)點(diǎn)，觀察近期的報(bào)道，似乎已無(wú)異議，而且仍是英特爾挑起大樑。盡管摩爾定律快“壽終正寢”的聲音已不容置辯，但是14nm的步伐仍按期走來，原因究竟是什么? 　　傳統(tǒng)光刻技術(shù)與日俱進(jìn) 　　當(dāng)尺寸縮小到22/20nm時(shí)，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已無(wú)能力，必須采用輔助的兩次圖形曝光技術(shù)。 　　提高光刻的分辨率有3個(gè)途徑：縮短曝光波長(zhǎng)、增大鏡頭數(shù)值孔徑NA
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ASML：量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)2015年就位

  • 　　極紫外光(EUV)微影技術(shù)將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤(rùn)式微影技術(shù)在半導(dǎo)體制程邁入1x奈米節(jié)點(diǎn)后將面臨物理極限，遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)和重量級(jí)晶圓廠，合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度，預(yù)計(jì)2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機(jī)臺(tái)。 　　ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國(guó)偉提到，ASML雖也同步投入E-Beam基礎(chǔ)研究，但目前對(duì)相關(guān)設(shè)備的開發(fā)計(jì)劃仍抱持觀望態(tài)度。 　　ASML亞太區(qū)技術(shù)行銷協(xié)理鄭國(guó)偉表示，ASML于2012年
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ASML完成對(duì)Cymer的收購(gòu)

  • 　　ASML和Cymer上周五宣布，已經(jīng)完成此前宣布的兩家合并計(jì)劃，ASML成功收購(gòu)了Cymer公司，作為該合并結(jié)果，Cymer普通股以20.00美元現(xiàn)金外加1.1502的 ASML普通股權(quán)益，ASML的股本也將因此增加大約3650萬(wàn)股。
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450毫米晶圓2018年量產(chǎn) 極紫外光刻緊隨

  • 　　全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商荷蘭ASML今天披露說，他們將按計(jì)劃在2015年提供450毫米晶圓制造設(shè)備的原型，Intel、三星電子、臺(tái)積電等預(yù)計(jì)將在2018年實(shí)現(xiàn)450毫米晶圓的商業(yè)性量產(chǎn)，與此同時(shí)，極紫外(EUV)光刻設(shè)備也進(jìn)展順利，將在今年交付兩套新的系統(tǒng)。 　　ASML在一份聲明中稱：“在客戶合作投資項(xiàng)目的支持下，我們已經(jīng)完成了用于極紫外、沉浸式光刻的450毫米架構(gòu)的概念設(shè)計(jì)，將在2015年交貨原型，并兼容2018年的量產(chǎn)，當(dāng)然如果整個(gè)產(chǎn)業(yè)來得及的話。” 　　Int
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半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML上季報(bào)喜 歐芯片股慶賀

  • 　　歐洲半導(dǎo)體設(shè)備大廠荷商艾司摩爾(ASML)上季營(yíng)收凈利雙雙優(yōu)于預(yù)測(cè)，并且維持今年前景看法，帶動(dòng)市場(chǎng)看好芯片業(yè)將展現(xiàn)復(fù)蘇預(yù)期，推升歐洲芯片股周四大漲。 　　艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元，在歐洲科技指數(shù)SX8P中表現(xiàn)居冠，德國(guó)芯片業(yè)者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元，為漲幅第二大成份股。 　　艾司摩爾上季財(cái)報(bào)周三揭曉，營(yíng)收年減29%至8.92億歐元，稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元，盡管數(shù)據(jù)皆向下衰退，但雙雙優(yōu)于市場(chǎng)預(yù)期。 　　艾司摩爾預(yù)估本季營(yíng)收約達(dá)11億歐元
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ASML上季報(bào)喜 歐芯片股慶賀

  • 　　歐洲半導(dǎo)體設(shè)備大廠荷商艾司摩爾(ASML)上季營(yíng)收凈利雙雙優(yōu)于預(yù)測(cè)，并且維持今年前景看法，帶動(dòng)市場(chǎng)看好芯片業(yè)將展現(xiàn)復(fù)蘇預(yù)期，推升歐洲芯片股周四大漲。 　　艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元，在歐洲科技指數(shù)SX8P中表現(xiàn)居冠，德國(guó)芯片業(yè)者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元，為漲幅第二大成份股。 　　艾司摩爾上季財(cái)報(bào)周三揭曉，營(yíng)收年減29%至8.92億歐元，稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元，盡管數(shù)據(jù)皆向下衰退，但雙雙優(yōu)于市場(chǎng)預(yù)期。 　　艾司摩爾預(yù)估本季營(yíng)收約達(dá)11億歐元
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ASML一季度凈利潤(rùn)9600萬(wàn)歐元

  • 　　國(guó)際頂級(jí)半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML2013年第一季度凈利潤(rùn)9600萬(wàn)歐元，同時(shí)宣布Peter Wennink從七月一日起擔(dān)任CEO 　　一季度凈利潤(rùn)9600萬(wàn)歐元 　　ASML第一季度的銷售額約為8億9千2百萬(wàn)歐元，凈利潤(rùn)為9600萬(wàn)歐元。 預(yù)期2013年全年銷售水平類似于2012年，第二季度比第一季度銷售額增加，下半年銷售強(qiáng)勁。同時(shí)ASML宣布將在2014年底之前回購(gòu)高達(dá)10億歐元股份。 　　Peter Wennink從七月一日起擔(dān)任CEO 　　從2013年7月1日期，現(xiàn)任CFO Peter
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