熟女俱乐部五十路二区av,又爽又黄禁片视频1000免费,国产卡一卡二卡三无线乱码新区,中文无码一区二区不卡αv,中文在线中文a

首頁　 資訊　 商機 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊 　 Datasheet　 100例 　 活動中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> 光刻機

光刻機 文章 最新資訊

臺積電稱2025年如期量產(chǎn)2nm芯片

  • 臺積電公開稱，高雄晶圓廠興建工程按照計劃進行，并且進展良好，2nm將如期于2025年量產(chǎn)。此前有消息稱，高雄廠第一座2納米廠將于11月26日舉行進機典禮，并自12月1日展開裝機。ASML也已經(jīng)向臺積電交付了NAEUV光刻機，該光刻機是生產(chǎn)制造2nm及以下工藝芯片的最佳設(shè)備。臺積電明年量產(chǎn)2nm芯片，還是在高雄工廠，這說明魏哲家說的沒錯，臺積電根留臺灣，最先進的技術(shù)，也留在了臺灣省。芯片規(guī)則修改后，美明確想要臺積電最先進的芯片技術(shù)，還要求更多芯片在本土制造。臺積電就加速在美建廠，連續(xù)投資超650億美元，建設(shè)
  • 關(guān)鍵字： 臺積電  2nm芯片  ASML  NAEUV  光刻機  封裝  

圖說光刻機的4大核心技術(shù)

  • 7nm LPP EUV實際產(chǎn)品中EUV和ArFi的對比1. 實際的光刻機簡要系統(tǒng)2. 7LPP是什么意思？臺積電的"7LPP"中"LPP"代表"Low Power Plus"，即"低功耗增強版"。7LPP是臺積電7納米工藝的一個變種，主要特點是在保持高性能的同時，進一步優(yōu)化了功耗表現(xiàn)。7LPP工藝通過改進晶體管設(shè)計和制程技術(shù)，實現(xiàn)了比前代7納米工藝更低的功耗和更高的晶體管密度。具體來說，臺積電的7LPP工藝相較于10納米工藝，
  • 關(guān)鍵字： 光刻機  

業(yè)績暴雷！ASML股價繼續(xù)大跌：想賣先進光刻機給中國廠商 但不被允許

  • 10月17日消息，由于業(yè)績暴雷，這導(dǎo)致光刻機龍頭ASML股價暴跌，而兩天時間股價已跌超20%。據(jù)官方公布的數(shù)據(jù)看，阿斯麥（ASML）今年第三季度接到的訂單大幅減少，總訂單金額約為26億歐元，不到上一季度近56億歐元的一半。消費者新聞與商業(yè)頻道當(dāng)天在報道中表示，由于美國和荷蘭相關(guān)出口限制措施，阿斯麥在其中國市場的增長前景引發(fā)投資者擔(dān)憂。阿斯麥此前一個季度財報數(shù)據(jù)顯示，這家企業(yè)49%的銷售額來自中國市場。另外，投資人士分析報道，美國主導(dǎo)的對華出口限制導(dǎo)致阿斯麥來自中國的訂單有所減少。之前ASML曾表示，也希望
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻機  

ASML凈銷售額75億歐元，凈利潤為21億歐元，預(yù)計2024年全年凈銷售額約為280億歐元

  • 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2024年第三季度財報。2024年第三季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額75億歐元，毛利率為50.8%，凈利潤達21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2，其中14億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預(yù)計2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間，毛利率介于49%到50%，2024年全年的凈銷售額約為280歐元。ASML還預(yù)計，2025年的凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%到53%。ASML 2024年第三季度財報一覽（除非特別說明，數(shù)字均以百萬歐元
  • 關(guān)鍵字： ASML  EUV  光刻機  

俄羅斯計劃開發(fā)本土光刻機等芯片制造工具

  • 據(jù)外媒報道，近日，俄羅斯政府已撥款超過2400億盧布（約合人民幣175億元）支持國產(chǎn)半導(dǎo)體制造所需設(shè)備、CAD工具及原材料研發(fā)，目標(biāo)是到2030年實現(xiàn)對于國外約70%的半導(dǎo)體設(shè)備和材料的國產(chǎn)替代。該計劃已經(jīng)啟動了41個研發(fā)項目，并計劃在未來幾年內(nèi)再啟動43個新項目，共計110個研發(fā)項目。這些項目將覆蓋從180nm到28nm的微電子、微波電子、光子學(xué)和電力電子等多個技術(shù)領(lǐng)域，為俄羅斯微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定堅實基礎(chǔ)。據(jù)悉，該計劃由俄羅斯工業(yè)部、貿(mào)易部、俄羅斯國際科學(xué)技術(shù)中心 （ISTC）MIET 電子工程部制定
  • 關(guān)鍵字： 俄羅斯  光刻機  

英特爾將如何抉擇：被收購？接受投資？還是能獨自成功轉(zhuǎn)型？

  • 據(jù)外媒報道，高通近期與英特爾就整體收購事宜一事進行了接觸，尚不清楚雙方磋商細節(jié)，交易細節(jié)還遠未確定，也并未提出正式報價。值得注意的是，即使英特爾接受高通的收購要約，這種規(guī)模的交易也會招致多國政府以及歐盟方面的反壟斷審查，也就是交易仍存在很大的變數(shù)。
  • 關(guān)鍵字： 英特爾  高通  Apollo  光刻機  

中國廠商貢獻50%銷售：光刻機廠商ASML被美國壓制 無法獨善其身

  • 9月2日消息，據(jù)國外媒體報道稱，在美國要求下，ASML明年可能無法為中國廠商維修光刻機。報道中提到，在ASML某些在中國提供服務(wù)和備件的許可證于今年年底到期后，現(xiàn)在的荷蘭首相很可能不再為其續(xù)期，而相關(guān)決定是在美國施加一定壓力后做出的。目前的情況是，ASML的銷售額中，約有一半來自中國。荷蘭新任首相也公開表示，上述規(guī)則變動會非常謹(jǐn)慎，因為這會影響光刻機巨頭阿斯麥（ASML）的經(jīng)濟利益這位新的首相直言：“我們正進行良好的談判。我們也正特別關(guān)注阿斯麥的經(jīng)濟利益，這些利益需要與其他風(fēng)險權(quán)衡，而經(jīng)濟利益是極其重要的
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻機  維修  

價值3.83億美元！Intel拿下全球第二臺High NA EUV光刻機

  • 8月6日消息，在近日的財報電話會議上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV（極紫外光刻機）。High NA EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片制造設(shè)備之一，其分辨率達到8納米，能夠顯著提升芯片的晶體管密度和性能，是實現(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)的必備武器。帕特·基辛格表示，第二臺High NA設(shè)備即將進入Intel位于美國俄勒岡州的晶圓廠，預(yù)計將支持公司新一代更強大的計算機芯片的生產(chǎn)。此前，Intel已于去年12月接收了全球首臺High NA EUV光刻
  • 關(guān)鍵字： Intel  High NA EUV  光刻機  晶圓  8納米  

ASML第二臺High-NA設(shè)備，即將導(dǎo)入英特爾奧勒岡廠

  • 英特爾正接收ASML第二臺耗資3.5億歐元（約3.83億美元）的新High NA EUV設(shè)備。根據(jù)英特爾8/1財報電話會議紀(jì)錄，CEO Pat Gelsinger表示，英特爾12月開始接收第一臺大型設(shè)備，安裝時間需要數(shù)月，預(yù)計可帶來新一代更強大的電腦英文。Gelsinger在電話中指出，第二臺High NA設(shè)備即將進入在奧勒岡州的廠房。由于英特爾財報會議后股價表現(xiàn)不佳，因此這番話并未引起注意。ASML高階主管7月曾表示，該公司已開始出貨第二臺High NA設(shè)備給一位未具名客戶，今年只記錄第一臺的收入。不過
  • 關(guān)鍵字： ASML  High-NA  英特爾  光刻機  

臺積電：仍在評估 High NA EUV 光刻機，采用時間未定

  • IT之家 7 月 30 日消息，《電子時報》昨日報道稱，臺積電最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技術(shù)。對此，臺積電海外營運資深副總經(jīng)理暨副共同營運長張曉強表示，仍在評估 High NA EUV 應(yīng)用于未來制程節(jié)點的成本效益與可擴展性，目前采用時間未定。▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻機，圖源：ASML上個月，ASML 透露將在 2024 年內(nèi)向臺積電交付首臺 High NA EUV 光刻機，價值達 3.8
  • 關(guān)鍵字： 臺積電  ASML  光刻機  EUV  

中國大陸仍是ASML光刻機最大買家 占全球總銷售額49％

  • 全球光刻機大廠ASML近日發(fā)布2024年第2季度財報，實現(xiàn)凈銷售額62.4億歐元，同比下滑約7.6%，同比增長約18%，居于官方預(yù)測中間值。雖然半導(dǎo)體設(shè)備出口限制規(guī)定生效造成影響，但中國大陸需求持續(xù)旺盛，依然是ASML的第一大銷售市場，市占比依然高達49%，主要項目仍在未受限的DUV設(shè)備。 ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示，正如此前幾個季度，半導(dǎo)體行業(yè)的整體庫存水平持續(xù)得到改善。無論是邏輯芯片還是存儲芯片客戶，對光刻設(shè)備的利用率都在進一步提高。宏觀環(huán)境為主的不確定
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻機  

國產(chǎn)廠商引入首臺光刻機設(shè)備！

  • 據(jù)寧波前灣新區(qū)管理委員會7月15日消息，近日寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來關(guān)鍵節(jié)點，引入首臺電子束掩模版光刻機。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40nm技術(shù)節(jié)點量產(chǎn)及28nm技術(shù)節(jié)點研發(fā)的重點設(shè)備。光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關(guān)鍵部件，類似于相機“底片”，光線經(jīng)過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進口，國產(chǎn)化率極低。據(jù)了解，冠石半導(dǎo)體主要從事45nm~28nm半導(dǎo)體光掩模版的規(guī)模化生產(chǎn)。當(dāng)前，冠石半導(dǎo)體一期潔凈車間設(shè)計產(chǎn)能為月產(chǎn)5000片180nm~2
  • 關(guān)鍵字： 光刻機  冠石半導(dǎo)體  

為什么說佳能是「明智」的光刻機出貨商？

  • 與從「器材之王」跌落的尼康有何區(qū)別？
  • 關(guān)鍵字： 光刻機  

ASML或?qū)yper-NA EUV光刻機定價翻倍，讓臺積電、三星和英特爾猶豫不決

  • ASML去年末向英特爾交付了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機，業(yè)界準(zhǔn)備從EUV邁入High-NA EUV時代。不過ASML已經(jīng)開始對下一代Hyper-NA EUV技術(shù)進行研究，尋找合適的解決方案，計劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機。據(jù)Trendforce報道，Hyper-NA EUV光刻機的價格預(yù)計達到驚人的7.24億美元，甚至可能會更高。目前每臺EUV光刻機的價格約為1.81億美元，High-NA EUV光刻機的價格大概為3.8億美元，是EUV光刻機的兩倍多
  • 關(guān)鍵字： ASML  Hyper-NA EUV  光刻機  臺積電  三星  英特爾  

三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機

  • 日前，日本三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線，開始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端光刻機的零部件產(chǎn)品（保護半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。據(jù)悉，此種CNT薄膜可以實現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線預(yù)計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV光刻機提供支持。
  • 關(guān)鍵字： 光刻機  納米管薄膜  ASML  
共211條 2/15 « 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 » ›|

光刻機介紹

國外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺, 金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。 濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機，300毫米清洗機,。 如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細 ]

熱門主題

光刻機    樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473