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ASML:EUV光刻機已近極限 追趕技術還是另辟蹊徑?
- ASML首席財務官達森(Roger Dassen)表示,EUV技術路線發(fā)展受歐美限制,且光刻機已接近技術極限,此一技術路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術跟隨?還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術路徑?將面臨艱難的抉擇。 據(jù)《芯智訊》報導,臺積電已經訂購了High NA EUV(高數(shù)值孔徑極紫外光)光刻機,ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結束,預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關設備訂單。ASML預測其設備的市場需求有望一路走強至2026年,這主要是受益于各國
- 關鍵字: ASML EUV 光刻機
臺積電不嫌ASML最新機臺貴? 魏哲家密訪歐洲內幕
- 臺積電晶圓代工事業(yè)遙遙領先,但高層顯然一點也沒有掉以輕心。據(jù)韓媒報導,臺積電總裁魏哲家23日沒有出席在臺北舉行臺積電2024年術論壇,是因為他已經前往歐洲秘密造訪艾司摩爾(ASML)荷蘭總部以及德國工業(yè)雷射大廠「創(chuàng)浦」(TRUMPF)。美國芯片大廠英特爾沖刺晶圓代工事業(yè),目前已成為ASML首臺最新型「High-NA EUV」(高數(shù)值孔徑極紫外光微影系統(tǒng))的買家。臺積電高層原本表示,臺積電A16先進制程節(jié)點并不一定需要這部機器,原因是價格太貴了。但據(jù)南韓媒體BusinessKorea報導,臺積電總裁魏哲家這
- 關鍵字: 臺積電 ASML 機臺
ASML最先進的光刻機,花落誰家?
- 4月上旬,全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設備Twinscan NXE:3800E,該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑,旨在滿足未來幾年對于尖端技術芯片的制造需求,包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點。ASML還計劃進一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F,預計將于2026年左右發(fā)布。近日,據(jù)外媒消息,ASML截至2025上半年的高數(shù)值孔徑EUV(High-NA EUV)設備訂單由英特爾全部包攬,據(jù)悉,英特爾在宣布重新進入芯片代工業(yè)務時搶先
- 關鍵字: ASML 半導體設備 EUV光刻機
ASML發(fā)布2024年第一季度財報
- 阿斯麥(ASML)今日發(fā)布2024年第一季度財報。2024年第一季度,ASML實現(xiàn)凈銷售額53億歐元,毛利率為51.0%,凈利潤達12億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為36億歐元2,其中6.56億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第二季度的凈銷售額在57億至62億歐元之間,毛利率介于50%到51%,預計2024年的凈銷售額將與2023年基本持平。1.累計裝機管理銷售額等于凈服務和升級方案?(field option)?銷售額的總和。2.訂單包括所有的系統(tǒng)銷售訂單和通脹調整
- 關鍵字: ASML 2024年第一季度財報
3大巨頭AI競賽背后的大贏家:芯片戰(zhàn)爭中的軍火商
- 全球AI浪潮來襲,3大巨頭臺積電、英特爾與三星競爭日益激烈,根據(jù)MarketWatch報導,避險基金經理人指出,荷蘭半導體設備大廠ASML就像這場芯片戰(zhàn)爭中的軍火商,成為最大受惠者之一。報導指出,Dilation Capital基金經理人Vijay Shilpiekandula在于倫敦舉辦的一場投資大會(Sohn Investment Conferenc)上表示,臺積電、英特爾和三星之間競爭激烈,身為設備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。Vijay Shilpiekandula認為,數(shù)年來A
- 關鍵字: AI 芯片戰(zhàn)爭 ASML
半導體光刻機巨頭,何去何從?
- 3月27日消息,據(jù)外媒報道,為留住光刻機設備巨頭阿斯麥(ASML)繼續(xù)在荷蘭發(fā)展,荷蘭政府計劃向ASML注入至少10億歐元資金。本月初,荷蘭當?shù)貓蠹圖e Telegraaf揭露,ASML計劃將公司搬離荷蘭。報道指出,ASML已向荷蘭政府提出了意向,表示將有可能在其他地方擴張或遷移,法國是選擇之一。根據(jù)荷蘭通訊社的消息,荷蘭政府為此專門成立了一個名為“貝多芬行動”的特別工作小組,由首相馬克·呂特親自領導,旨在與ASML進行協(xié)商以解決其對荷蘭當?shù)貏趧恿?、法?guī)政策和供應鏈安全的擔憂。最新消息指出,荷蘭政府計
- 關鍵字: 半導體 光刻機 ASML
逼近極限!ASML發(fā)布第三代EUV光刻機
- 芯片制造商需要速度。在科技日新月異的今天,芯片制造技術的不斷革新成為了推動科技進步的關鍵力量。作為光刻技術的領軍企業(yè),ASML近日發(fā)布的第三代EUV光刻機——Twinscan NXE:3800E,無疑為全球芯片制造業(yè)帶來了新的希望與機遇。更加先進的光刻機出現(xiàn),不僅代表著ASML在光刻技術領域的又一次突破,更將助力芯片制造商實現(xiàn)2nm處理器制造的飛躍。又一“神器”出現(xiàn)ASML,作為全球領先的光刻機制造商,不用過多介紹。此次發(fā)布的Twinscan NXE:3800E光刻機,是ASML在EUV光刻技術領域的又一
- 關鍵字: ASML 光刻機
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