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ASML：中國廠商生產(chǎn)成熟制程芯片就行，世界需要

  • 全球?qū)Τ墒熘瞥绦酒男枨笳诩眲∩仙?，但西方芯片制造商對該領(lǐng)域的投資不夠。
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不賣7nm等先進(jìn)光刻機(jī)！ASML：中國廠商生產(chǎn)“落后”制程芯片就行 世界需要

  • 7月9日消息，據(jù)外媒報道稱，由于種種因素，ASML絕不能賣給中國廠商最先進(jìn)的光刻機(jī)，但該公司CEO卻表示，世界需要中國生產(chǎn)的"傳統(tǒng)芯片"。ASML的CEO Christophe Fouquet接受采訪時表示，全球芯片買家，包括德國汽車工業(yè)在內(nèi)，都迫切需要中國芯片制造商目前正大力投資的舊一代電腦芯片。根據(jù)行業(yè)組織SEMI的估計，中國芯片制造商將在2025年將產(chǎn)能增加14%，是全球其他地區(qū)的兩倍以上，到2025年將達(dá)到每月1010萬片晶圓，占全球總產(chǎn)量的大約三分之一。"全球?qū)@類
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ASML前總裁稱"意識形態(tài)而非事實"助長中美芯片戰(zhàn)爭

  • 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 為所有主要企業(yè)提供尖端光刻技術(shù)。該公司最近離職的首席執(zhí)行官剛剛分享了他對這一復(fù)雜地緣政治格局的見解。彼得-溫尼克（Peter Wennink）最近在接受荷蘭 BNR 電臺采訪時，對美國針對中國芯片產(chǎn)業(yè)的貿(mào)易限制毫不諱言。在執(zhí)掌 ASML 十年之后于今年四月卸任的溫尼克聲稱，這類討論不是基于事實、內(nèi)容、數(shù)字或數(shù)據(jù)，而是基于意識形態(tài)。在溫尼克的領(lǐng)導(dǎo)下，ASML 逐漸成為歐洲最大的科技公司。隨著中國政府加倍努力實現(xiàn)半導(dǎo)體自給自足，中國成為繼臺灣之后 ASML 的第二大市
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EUV 的單次曝光與多次曝光的進(jìn)步

  • 在過去的五年中，EUV 模式設(shè)計取得了長足的進(jìn)步，但高 NA EUV 又重現(xiàn)了舊的挑戰(zhàn)。
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ASML或?qū)yper-NA EUV光刻機(jī)定價翻倍，讓臺積電、三星和英特爾猶豫不決

  • ASML去年末向英特爾交付了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機(jī)，業(yè)界準(zhǔn)備從EUV邁入High-NA EUV時代。不過ASML已經(jīng)開始對下一代Hyper-NA EUV技術(shù)進(jìn)行研究，尋找合適的解決方案，計劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機(jī)。據(jù)Trendforce報道，Hyper-NA EUV光刻機(jī)的價格預(yù)計達(dá)到驚人的7.24億美元，甚至可能會更高。目前每臺EUV光刻機(jī)的價格約為1.81億美元，High-NA EUV光刻機(jī)的價格大概為3.8億美元，是EUV光刻機(jī)的兩倍多
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臺積電EUV大舉拉貨 供應(yīng)鏈集體狂歡

  • 臺積電2納米先進(jìn)制程產(chǎn)能將于2025年量產(chǎn)，設(shè)備廠正如火如荼交機(jī)，尤以先進(jìn)制程所用之EUV（極紫外光曝光機(jī)）至為關(guān)鍵，今明兩年共將交付超過60臺EUV，總投資金額上看超過4,000億元。在產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)充之下，ASML2025年交付數(shù)量成長將超過3成，臺廠供應(yīng)鏈沾光，其中家登積極與ASML攜手投入次世代High-NA EUV研發(fā)，另外帆宣、意德士、公準(zhǔn)、京鼎及翔名等有望同步受惠。 設(shè)備業(yè)者透露，EUV機(jī)臺供應(yīng)吃緊，交期長達(dá)16至20個月，因此2024年訂單大部分會于后年開始交付；據(jù)法人估計，今年臺積電EUV訂
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ASML市值超車LVMH，成為歐洲第二大上市公司

  • 最新 EUV 設(shè)備的銷售情況對 ASML 的市值產(chǎn)生了明顯影響。
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三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機(jī)

  • 日前，日本三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線，開始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端光刻機(jī)的零部件產(chǎn)品（保護(hù)半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。據(jù)悉，此種CNT薄膜可以實現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線預(yù)計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV光刻機(jī)提供支持。
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可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布Hyper NA EUV光刻機(jī)：死胡同不遠(yuǎn)了

  • 6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機(jī)，同時正在研究更強(qiáng)大的Hyper NA EUV光刻機(jī)，預(yù)計可將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機(jī)孔徑數(shù)值只有0.33，對應(yīng)產(chǎn)品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預(yù)計到2025年可以量產(chǎn)2nm，再往后就得加入多重曝光，預(yù)計到2027年能實現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機(jī)升級到了
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光刻機(jī)巨頭 ASML 聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特魯斯特逝世，享年 98 歲

  • IT之家 6 月 12 日消息，光刻機(jī)巨頭 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒體發(fā)文，悼念 ASML 創(chuàng)始人之一維姆?特魯斯特（Wim Troost）離世。另據(jù)《埃因霍溫日報》，Wim 于上周五（6 月 8 日）上午逝世，享年 98 歲。ASML 稱，“Wim Troost 去世了。Wim 是我們的創(chuàng)始元老之一，也是 1987 年至 1990 年期間的 CEO，那時 ASML 正努力爭取其第一個客戶。退休后，Wim 一直是 ASML 和高科技產(chǎn)業(yè)的真正大使。他激勵了一代又一代的后人。我們感
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美國芯片管控引ASML吐槽：倒逼中國廠商造出更先進(jìn)光刻機(jī)

  • 快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公開表示，美國嚴(yán)厲的芯片管控規(guī)定，只會倒逼中國廠商進(jìn)步更快。ASML CEO表示，多年來，公司都不用擔(dān)心設(shè)備的去向會受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話題之一。過去一段時間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關(guān)鍵的半導(dǎo)體技術(shù)。去年，荷蘭政府宣布了新的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施，主要針對先進(jìn)制程的芯片制造技術(shù)，阿斯麥?zhǔn)桩?dāng)其沖。根據(jù)ASML今年1月1日發(fā)布的聲明，荷蘭政府撤銷的是2023年頒發(fā)的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出口許可證
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ASML：EUV光刻機(jī)已近極限 追趕技術(shù)還是另辟蹊徑？

  • ASML首席財務(wù)官達(dá)森（Roger Dassen）表示，EUV技術(shù)路線發(fā)展受歐美限制，且光刻機(jī)已接近技術(shù)極限，此一技術(shù)路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進(jìn)行技術(shù)跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術(shù)路徑？將面臨艱難的抉擇。 據(jù)《芯智訊》報導(dǎo)，臺積電已經(jīng)訂購了High NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光）光刻機(jī)，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結(jié)束，預(yù)計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關(guān)設(shè)備訂單。ASML預(yù)測其設(shè)備的市場需求有望一路走強(qiáng)至2026年，這主要是受益于各國
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臺積電今年將拿到最新款光刻機(jī)

  • 6月6日消息，據(jù)外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進(jìn)的光刻機(jī)，單臺造價達(dá)3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設(shè)備，第一臺設(shè)備已于12月底運(yùn)往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設(shè)備。據(jù)悉，這些機(jī)器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當(dāng)于兩架空中客車A
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ASML今年將向臺積電交付最新款光刻機(jī) 單價3.8億美元

  • 6月6日消息，荷蘭光刻機(jī)制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機(jī)。據(jù)公司發(fā)言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財務(wù)官羅杰·達(dá)森（Roger Dassen）在近期的分析師電話會議中表示，包括臺積電和英特爾在內(nèi)的ASML兩大客戶都將在今年年底前拿到高數(shù)值孔徑極紫外線（high-NA EUV）光刻機(jī)。英特爾已經(jīng)下單購買了這款最新的光刻機(jī)，并于去年12月底將第一臺機(jī)器運(yùn)至其位于俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚臺積電何時會收到這些設(shè)備。臺積電代表表示，公司一直與供應(yīng)商保持密切合作，但拒絕對此事
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ASML和IMEC啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室

  • 自ASML官網(wǎng)獲悉，6月3日，比利時微電子研究中心（imec）與阿斯麥（ASML）宣布在荷蘭費(fèi)爾德霍芬（Veldhoven）開設(shè)聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同運(yùn)營。聲明中稱，經(jīng)過多年的構(gòu)建和集成，該實驗室已準(zhǔn)備好為領(lǐng)先的邏輯和存儲芯片制造商以及先進(jìn)材料和設(shè)備供應(yīng)商提供第一臺原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀（TWINSCAN EXE：5000）以及周圍的處理和計量工具。據(jù)悉，該聯(lián)合實驗室的開放是High-NA EUV大批量生
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