?半導(dǎo)體文章最新資訊

粵澳合作光博匯落戶江門打造高端LED交易平臺(tái)

　目前，江門高新區(qū)先后已引進(jìn)奧倫德、真明麗、德力光電、西鐵城等181家綠色光源企業(yè)，約占全市總數(shù)的60%，其中已投產(chǎn)115家，形成了較為完整的“外延—芯片—封裝—應(yīng)用”產(chǎn)業(yè)鏈，其中，上中游外延芯片不僅產(chǎn)量居全省前列，還擁有接近國(guó)際先進(jìn)水平、國(guó)內(nèi)領(lǐng)先地位的自主核心技術(shù)，先后在全球幾十個(gè)國(guó)家和地區(qū)取得發(fā)明專利524項(xiàng)。2011年，LED產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值
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半導(dǎo)體行業(yè)：Q3一反常態(tài) 前景暗淡

　情況更為糟糕的是：ST增幅介乎-5%到 +5.5%;Freescale增幅介乎 -7%到+2%;PMC-Sierra增幅介乎 -6%到0%;Maxim 增幅介乎0 %到+5% ——所有公司均表示，半導(dǎo)體行業(yè)困難重重。
關(guān)鍵字： SanDisk 半導(dǎo)體

中國(guó)LED之殤：缺芯的煩惱

根據(jù)業(yè)內(nèi)人士的指引，記者來到廣東省惠州市某開發(fā)區(qū)的LED產(chǎn)業(yè)園，據(jù)產(chǎn)業(yè)園工作人員介紹，這個(gè)LED產(chǎn)業(yè)園主要引進(jìn)外延片、芯片、LED背光源、封裝等中上游LED企業(yè)為主，產(chǎn)業(yè)園的初衷是想集中LED行業(yè)龍頭企業(yè)，建成集企業(yè)總部、中上游產(chǎn)業(yè)的研發(fā)與生產(chǎn)、生產(chǎn)性服務(wù)和生活配套于一體的LED產(chǎn)業(yè)核心集聚區(qū)。顧名思義能夠進(jìn)入該園區(qū)的企業(yè)都是有志向開發(fā)研究LED中上游技術(shù)產(chǎn)品的企業(yè)，所以招商初始進(jìn)入園區(qū)的都是有志在LED中上游階段發(fā)展的有實(shí)力的企業(yè)。但是記者在這個(gè)園區(qū)看到的景象卻和想象相去甚遠(yuǎn)，很多在兩三年前就拿了地承建
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適用于能量采集應(yīng)用的電源管理架構(gòu)

過去幾年，各大公司都做出了相當(dāng)大的努力，目標(biāo)是讓一些持續(xù)供電和無電池型系統(tǒng)能夠利用自然能工作。開發(fā)這種系統(tǒng)所需的關(guān)鍵集成電路 (IC) 是超低功耗微處理器、無線電器件和電源管理 IC。盡管我們?cè)诘凸奈⑻幚砥骱?/li>
關(guān)鍵字：能源電源管理能量采集環(huán)境自然半導(dǎo)體德州儀器

半導(dǎo)體電阻率的多種測(cè)量方法應(yīng)用與注意事項(xiàng)

半導(dǎo)體電阻率的多種測(cè)量方法應(yīng)用與注意事項(xiàng)依據(jù)摻雜水平的不同，半導(dǎo)體材料可能有很高的電阻率。有幾種因...
關(guān)鍵字：半導(dǎo)體電阻率測(cè)量靜電計(jì) 運(yùn)算放大器

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)入三強(qiáng)鼎立時(shí)代

　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的摩爾定律仍然有效，但要更有效的降低生產(chǎn)成本，以符合終端電子產(chǎn)品的景氣循環(huán)及降價(jià)速度，接下來的最大關(guān)卡，就是18寸晶圓及EUV技術(shù)，未來有能力加入這場(chǎng)游戲的業(yè)者，只剩下英特
關(guān)鍵字：半導(dǎo)體晶圓

大型UPS在半導(dǎo)體制造廠的應(yīng)用

一.引言半導(dǎo)體制造業(yè)是全球十大重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)之一,是技術(shù)資金密集,技術(shù)進(jìn)步和投資風(fēng)險(xiǎn)高的產(chǎn)業(yè).中緯公司是浙江...
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電源：大型UPS在半導(dǎo)體制造廠的應(yīng)用

標(biāo)簽：半導(dǎo)體 UPS 電源一.引言半導(dǎo)體制造業(yè)是全球十大重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)之一,是技術(shù)資金密集,技術(shù)進(jìn)步和投資風(fēng)險(xiǎn)高的產(chǎn)業(yè).中緯公司是浙江省至今唯一的6英夾酒制造項(xiàng)目,該項(xiàng)目于2003年7月投產(chǎn)以來,當(dāng)前的產(chǎn)量已達(dá)10000片/
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半導(dǎo)體代工幾家歡喜幾家愁

的變化，上有半導(dǎo)體代工工廠的境況也可謂是喜憂參半。作為一個(gè)國(guó)家科技實(shí)力的象征，很多半導(dǎo)體企業(yè)可以獲得來自政府的直接或間接投資，但如果一個(gè)國(guó)家有多家半導(dǎo)體代工企業(yè)，那么相對(duì)弱勢(shì)的企業(yè)則很難得到來自政府的鼎力支持。另一方面，半導(dǎo)體代工行業(yè)是一項(xiàng)前期投資非常巨大且投資回報(bào)周期相對(duì)較長(zhǎng)的行業(yè)，資金鏈?zhǔn)欠窠】抵苯雨P(guān)系到企業(yè)能否繼續(xù)生存下去
關(guān)鍵字：聯(lián)電半導(dǎo)體

報(bào)告稱Q2日本半導(dǎo)體公司集體淪陷

公司東芝第二財(cái)季營(yíng)收為24億美元，環(huán)比下滑26%。東芝是全球第六大半導(dǎo)體公司，位居英特爾、三星、臺(tái)積電、德儀和高通之后。
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美光科技測(cè)試產(chǎn)能項(xiàng)目進(jìn)行擴(kuò)容

全球最大的先進(jìn)半導(dǎo)體解決方案供應(yīng)商之一美國(guó)美光科技有限公司，繼在西安投資2.5億美元和3億美元后，將在西安再投近3億美元進(jìn)行測(cè)試產(chǎn)能擴(kuò)容項(xiàng)目。
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新研究揭示塑料半導(dǎo)體中電荷陷阱的形成機(jī)制

標(biāo)簽：塑料半導(dǎo)體電荷陷阱塑料半導(dǎo)體給低成本、大批量生產(chǎn)電子器件帶來了希望，但其有一個(gè)重要的缺陷：電流會(huì)受到材料中電荷陷阱的影響。據(jù)物理學(xué)家組織網(wǎng)7月31日(北京時(shí)間)報(bào)道，荷蘭格羅寧根大學(xué)和美國(guó)佐治亞理工
關(guān)鍵字：陷阱形成機(jī)制中電半導(dǎo)體揭示塑料研究

全球最小半導(dǎo)體雷射清大成功研發(fā)

　　臺(tái)灣又有領(lǐng)先世界的研究，清華大學(xué)物理系成功臺(tái)灣的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、傲視全球，國(guó)立清華大學(xué)、成功大學(xué)在半導(dǎo)體研究又有新的突破發(fā)現(xiàn)。研究團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)出、全球最小的半導(dǎo)體雷射，運(yùn)算速度比傳統(tǒng)半導(dǎo)體雷射、快了將近1000倍?，F(xiàn)有的電晶體雖然已經(jīng)做到奈米等級(jí)，但傳輸速度卻無法大幅提升，科學(xué)界雖然知道，光可以解決所有的問題，但發(fā)展了半世紀(jì)的半導(dǎo)體雷射卻始終面臨瓶頸無法克服，清華大學(xué)和美國(guó)德州大學(xué)合作，成功研發(fā)出有史以來最小尺寸的半導(dǎo)體雷射，將帶領(lǐng)半導(dǎo)體科技進(jìn)入新的里程。　　電晶體要愈做愈小的原因是愈做愈小的話電子跑
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Yole：2017年3D TSV將占總半導(dǎo)體市場(chǎng)9%

　　市調(diào)機(jī)構(gòu)Yole Developpement稍早前發(fā)布了一份針對(duì)3DIC與矽穿孔 ( TSV )的調(diào)查報(bào)告，指出過去一年來，所有使用TSV封裝的3DIC或3D-WLCSP平臺(tái)(包括CMOS影像感測(cè)器、環(huán)境光感測(cè)器、功率放大器、射頻和慣性MEMS元件)等產(chǎn)品產(chǎn)值約為27億美元，而到了2017年，該數(shù)字還可望成長(zhǎng)到400億美元，占總半導(dǎo)體市場(chǎng)的9%。　　Yole Developpement的先進(jìn)封裝部市場(chǎng)暨技術(shù)分析師Lionel Cadix 指出，3DIC通常使用TSV 技術(shù)來堆疊記憶體和邏輯IC，預(yù)
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宏力半導(dǎo)體成功開發(fā)0.13微米嵌入式EEPROM模塊

　　中國(guó)上海，2012年7月30日-上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司(以下簡(jiǎn)稱“宏力半導(dǎo)體”)，專注于差異化技術(shù)的半導(dǎo)體制造領(lǐng)先企業(yè)，宣布成功開發(fā)出高可靠性的0.13微米嵌入式EEPROM模塊(具有單字節(jié)擦寫能力)。　　宏力半導(dǎo)體先進(jìn)的0.13微米嵌入式非揮發(fā)性存儲(chǔ)技術(shù)，第一次在0.13微米1.5伏低漏電、低功耗邏輯工藝平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)了閃存模塊和EEPROM模塊的完美結(jié)合?；谠撓冗M(jìn)技術(shù)開發(fā)出的0.13微米嵌入式EEPROM模塊，數(shù)據(jù)保持時(shí)間達(dá)到100年，擦寫次數(shù)大幅提高到50萬次。此次
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