8月13日，我國首臺(tái)自主研發(fā)的商用電子束光刻機(jī)“羲之”在浙江余杭正式揭幕。

根據(jù)杭州政府網(wǎng)站的報(bào)道，這臺(tái)機(jī)器是浙江大學(xué)技術(shù)轉(zhuǎn)化基地簽署的第一個(gè)項(xiàng)目之一。它已經(jīng)在客戶現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行了測(cè)試，精度與主流國際設(shè)備相當(dāng)。這一里程碑標(biāo)志著量子芯片研發(fā)現(xiàn)在有了自己的“中國刻刀?！?/span>

研發(fā)團(tuán)隊(duì)的一名成員解釋說，西馳專注于量子芯片和下一代半導(dǎo)體研究的核心階段。它使用高能電子束在硅基板上“手繪”電路，實(shí)現(xiàn)0.6納米的精度和8納米的線寬。其設(shè)計(jì)可以靈活修改，無需掩模，就像用納米級(jí)的畫筆直接在芯片上繪畫一樣——特別適合芯片開發(fā)早期階段所需的迭代調(diào)試。

此前，此類設(shè)備受到國際出口管制的限制，導(dǎo)致中國頂尖科研機(jī)構(gòu)如中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)和中浙實(shí)驗(yàn)室無法采購?！棒酥钡耐瞥鲇型缭竭@一障礙，目前已有多個(gè)科研機(jī)構(gòu)正在進(jìn)行討論。

西齊電子束光刻機(jī)的成功應(yīng)用測(cè)試，在國內(nèi)高端半導(dǎo)體核心設(shè)備的發(fā)展上是一個(gè)重大突破。這款自主研發(fā)的“中國刻刀”將為加速國內(nèi)先進(jìn)芯片的研發(fā)、確保未來技術(shù)的戰(zhàn)略優(yōu)勢(shì)奠定堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。