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中國打破下一代芯片“黃金半導(dǎo)體”生產(chǎn)壁壘

作者: 時間:2025-07-28 來源: 收藏

幾十年來,硅一直是無可爭議的計算之王,為從智能手機到超級計算機的一切提供動力。但隨著工程師將硅芯片推向其基本物理極限,全球?qū)ふ依^任者的競賽愈演愈烈?,F(xiàn)在,中國科學(xué)家的一項突破帶來了重大飛躍,釋放了硒化銦的大規(guī)模生產(chǎn)潛力——這種材料因其卓越的性能而被譽為“”。

由北京大學(xué)和中國人民大學(xué)團隊領(lǐng)導(dǎo)的研究于 2024 年 5 月 10 日發(fā)表在著名期刊《科學(xué)》上,設(shè)計了一種新方法來克服阻礙硒化銦廣泛使用的關(guān)鍵瓶頸。與硅相比,這種半導(dǎo)體具有固有的優(yōu)勢,包括未來電子設(shè)備的潛在更高性能和更低能耗。然而,實現(xiàn)銦原子和硒原子保持完美 1:1 比例的高質(zhì)量材料的大規(guī)模生產(chǎn)一直是一個持續(xù)的挑戰(zhàn)。

“黃金”挑戰(zhàn)和巧妙的解決方案

核心問題在于所需的微妙原子舞蹈?!昂诵奶魬?zhàn)在于在生產(chǎn)過程中精確維持銦和硒的理想 1:1 原子比,”北京大學(xué)物理學(xué)院劉開慧教授解釋道,正如該研究的報道所報道的那樣。傳統(tǒng)方法難以大規(guī)模一致地實現(xiàn)這一目標,導(dǎo)致缺陷削弱了材料的電子電位。

中國團隊的創(chuàng)新優(yōu)雅簡單,但非常有效。他們在密封環(huán)境中加熱無定形硒化銦薄膜和固體銦。至關(guān)重要的是,汽化的銦原子遷移到薄膜邊緣,形成富含銦的液體界面。該界面充當自調(diào)節(jié)區(qū),逐漸引導(dǎo)形成具有近乎完美原子排列的高質(zhì)量硒化銦晶體?!斑@種方法確保了正確的原子比......并克服了關(guān)鍵的瓶頸,“劉教授說。

從實驗室好奇心到工業(yè)前景

結(jié)果是切實而重要的。研究人員成功生產(chǎn)出直徑為 5 厘米(2 英寸)的均勻硒化銦晶圓,這是邁向工業(yè)規(guī)模制造的重要一步。更重要的是,他們通過直接在這些晶圓上構(gòu)建大規(guī)模的高性能晶體管陣列,證明了這種材料的實際可行性。

北京大學(xué)電子學(xué)院研究員邱晨光強調(diào)了直接的應(yīng)用潛力:“晶體管......可以直接用于集成芯片器件。從概念驗證到功能器件集成的轉(zhuǎn)變標志著一個重要的里程碑,將硒化銦超越了理論上的前景,進入了實用的下一代電子領(lǐng)域。

為什么“”對未來很重要

這一突破的影響遠遠超出了實驗室的范圍。隨著硅芯片在不產(chǎn)生過多功耗和發(fā)熱的情況下保持性能提升面臨越來越大的困難,硒化銦等替代品變得至關(guān)重要。其獨特的結(jié)構(gòu)和電子特性可以實現(xiàn):

  • 更快的計算:電子遷移率明顯高于硅的潛力。

  • 更低的功耗:更高效的運營,對于移動設(shè)備和大型數(shù)據(jù)中心至關(guān)重要。

  • 高級應(yīng)用:對新型計算架構(gòu)和專用傳感器的潛在適用性。

全球芯片競賽升溫

這一發(fā)展使中國在先進半導(dǎo)體材料研究方面穩(wěn)居前列。雖然大規(guī)模生產(chǎn)和商業(yè)化整合需要進一步的發(fā)展和投資,但解決硒化銦的根本生產(chǎn)挑戰(zhàn)開辟了一條重要的新途徑。它標志著全球競爭日益激烈,以定義將推動從人工智能到量子計算的下一波技術(shù)創(chuàng)新浪潮的材料。

大規(guī)模生產(chǎn)“”硒化銦的這一突破不僅是一項科學(xué)成就,而且是一項科學(xué)成就。它對整個電子行業(yè)來說是一個潛在的游戲規(guī)則改變者。通過解決關(guān)鍵的原子比問題,中國研究人員為最終超越硅極限的高性能、節(jié)能芯片鋪平了道路?!包S金半導(dǎo)體”時代的到來可能比預(yù)期的要快。探索最新的芯片創(chuàng)新,了解這將如何塑造您的技術(shù)未來。

問:“黃金半導(dǎo)體”到底是什么?
答:“黃金半導(dǎo)體 ”一詞是指硒化銦(InSe),一種化合物半導(dǎo)體材料。它因其獨特且非常理想的電子特性而贏得了這個綽號,特別是與硅相比,它具有高電子遷移率和低功耗的潛力,使其對未來的先進芯片具有價值。

問:為什么以前大規(guī)模生產(chǎn)硒化銦如此困難?
答:核心挑戰(zhàn)是在生產(chǎn)過程中始終如一地保持銦 (In) 與硒 (Se) 的精確 1:1 原子比。偏離該比率會引入缺陷,嚴重降低材料的電子性能,使其不適合可靠的芯片制造。

問:是什么讓中國的這一突破如此重要?
答:研究人員開發(fā)了一種使用固體銦的新型密封加熱方法,該方法可形成自調(diào)節(jié)的液體界面。這確保了晶體生長過程中正確的 In:Se 比例,首次能夠生產(chǎn)出大型(直徑 5 厘米)的高質(zhì)量硒化銦晶圓,克服了工業(yè)用途的主要瓶頸。

問:這些黃金半導(dǎo)體有哪些潛在應(yīng)用?
答:硒化銦芯片可以實現(xiàn)更快的計算速度、更節(jié)能的電子產(chǎn)品(延長電池壽命),并有可能為下一代技術(shù)提供動力,如先進的人工智能系統(tǒng)、專用傳感器和硅難以解決的新型計算架構(gòu)。

問:我們什么時候可以看到使用硒化銦芯片的設(shè)備?
答:雖然這是一項重大的生產(chǎn)突破,但將其轉(zhuǎn)化為商業(yè)消費設(shè)備將需要大量的進一步工程設(shè)計、制造規(guī)模擴大和集成工作。它可能代表了本十年后半葉或更遠的一項技術(shù),但現(xiàn)在道路更加清晰。


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