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Metryx和Intel合作開發(fā)20納米節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體工藝

作者: 時間:2011-06-16 來源:Fab-Tech 收藏

  英國質(zhì)量計量設(shè)備廠商Metryx日前正式加入一項(xiàng)由歐洲廠商主導(dǎo)的半導(dǎo)體設(shè)備創(chuàng)新發(fā)展評估項(xiàng)目,在此合作框架下,Metryx將和,IMEC等展開深入合作,為節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體工藝開發(fā)提供高精度質(zhì)量計量技術(shù)和設(shè)備。高精度質(zhì)量計量技術(shù)用于監(jiān)控淀積工藝和其它引起質(zhì)量細(xì)微變化的工藝步驟,也可以用來監(jiān)控由于高參雜注入導(dǎo)致光刻膠剝落而引起的硅損耗、襯底損壞等問題。

本文引用地址:http://www.bjwjmy.cn/article/120475.htm


關(guān)鍵詞: Intel 20納米

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