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hyper-na euv 文章 最新資訊

EUV的未來看起來更加光明

  • 對支持一切 AI 的先進節(jié)點芯片的需求迅速增長，這給該行業(yè)滿足需求的能力帶來了壓力。從為大型語言模型提供支持的超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心，到智能手機、物聯(lián)網(wǎng)設備和自主系統(tǒng)中的邊緣 AI，對尖端半導體的需求正在加速。但制造這些芯片在很大程度上依賴于極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)，這已成為擴大生產(chǎn)規(guī)模的最大障礙之一。自 2019 年第一批商用 EUV 芯片下線以來，設備、掩模生成和光刻膠技術(shù)的穩(wěn)步改進使該技術(shù)穩(wěn)定下來。但是，雖然良率正在提高，但它們?nèi)匀宦浜笥诟墒斓墓饪碳夹g(shù)。工藝穩(wěn)定性需要時刻保持警惕和微調(diào)。就 EUV
  • 關鍵字： EUV  AI芯片  

芯片巨頭，盯上EUV

  • 除了 ArF 空白掩膜，三星還在加大力度將其他高度依賴日本的材料本地化。
  • 關鍵字： 三星電子  EUV  

英特爾：ASML首批兩臺High-NA EUV設備已投產(chǎn)

  • 據(jù)路透社報道，半導體大廠英特爾近日表示，半導體設備大廠阿斯麥（ASML）的首批兩臺尖端高數(shù)值孔徑（High NA）光刻機已在其工廠正式投入生產(chǎn)，且早期數(shù)據(jù)顯示，這些設備的性能比之前的機型更可靠。報道稱，英特爾資深首席工程師Steve Carson在加利福尼亞州圣何塞舉行的一次會議上指出，英特爾已經(jīng)利用ASML高數(shù)值孔徑光刻機在一個季度內(nèi)生產(chǎn)了3萬片晶圓，這些晶圓是足以生產(chǎn)數(shù)千個計算芯片的大型硅片。2024年，英特爾成為全球第一家接收這些先進設備的芯片制造商，與之前的ASML設備相比，這些機器可望制造出更小
  • 關鍵字： 英特爾  ASML  High-NA  EUV  

英特爾兩臺High NA EUV光刻機已投產(chǎn)，單季完成3萬片晶圓

  • 據(jù)路透社2月24日報道，英特爾資深首席工程師Steve Carson在美國在加利福尼亞州圣何塞舉行的一場會議上表示，英特爾已經(jīng)安裝的兩臺ASML High NA EUV光刻機正在其晶圓廠生產(chǎn)，早期數(shù)據(jù)表明它們的可靠性大約是上一代光刻機的兩倍。Steve Carson指出，新的High NA EUV光刻機能以更少曝光次數(shù)完成與早期設備相同的工作，從而節(jié)省時間和成本。英特爾工廠的早期結(jié)果顯示，High NA EUV 機器只需要一次曝光和“個位數(shù)”的處理步驟，即可完成早期機器需要三次曝光和約40個處
  • 關鍵字： 英特爾  High NA EUV  光刻機  晶圓  

英特爾：首批兩臺High-NA EUV 設備已投產(chǎn)

  • 英特爾24日表示，ASML首批的兩臺先進曝光機已投產(chǎn)，早期數(shù)據(jù)顯示比之前機型更可靠。英特爾資深首席工程師 Steve Carson 指出，英特爾用ASML 高數(shù)值孔徑（High NA）曝光機一季內(nèi)生產(chǎn) 3 萬片晶圓，即生產(chǎn)數(shù)千顆運算芯片的大型硅片。英特爾去年成為全球第一間接收這些設備的芯片制造商，與之前ASML設備相比，這些機器可望制造出更小、更快的運算芯片。 此舉是英特爾策略轉(zhuǎn)變，因英特爾采用上代極紫外光（EUV）曝光機時落后競爭對手。英特爾花了七年才將之前機器全面投產(chǎn)，導致領先優(yōu)勢被臺積電超越。 生產(chǎn)
  • 關鍵字： 英特爾  High-NA  EUV  

英特爾拿到的ASML高數(shù)值孔徑EUV已投入生產(chǎn)

  • 《科創(chuàng)板日報》25日訊，英特爾周一表示，去年率業(yè)界之先接收的兩臺ASML高數(shù)值孔徑極紫外光EUV已投入生產(chǎn)。英特爾資深總工程師卡森表示，ASML這兩臺尖端機器已生產(chǎn)了3萬片晶圓。
  • 關鍵字： 英特爾  ASML  EUV  

EUV光刻，新的對手

  • 最近，美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室（LLNL）宣布開發(fā)出了一種名稱為大孔徑銩（BAT）激光器，這種激光器比現(xiàn)在行業(yè)內(nèi)的標準 CO2 激光器將 EUV 光源提高約 10 倍。這一進步，可能為新一代「超越 EUV」的光刻系統(tǒng)鋪平道路，從而生產(chǎn)出更小、更強大、制造速度更快、同時耗電量更少的芯片。簡而言之，美國開發(fā)的新一代 BAT 激光器，遠超現(xiàn)在的 EUV 光刻，能夠?qū)⑿侍嵘?10 倍。EUV 光刻有多強？目前來看，沒有 EUV 光刻，業(yè)界就無法制造 7nm 制程以下的芯片。EUV 光刻機也是歷史上最復雜、最
  • 關鍵字： EUV  

納米壓印光刻技術(shù)旨在挑戰(zhàn)EUV

  • 9 月，佳能推出了這項技術(shù)的第一個商業(yè)版本，有朝一日可能會顛覆最先進的硅芯片的制造。它被稱為納米壓印光刻 （NIL），能夠?qū)π≈?14 納米的電路特征進行圖案化，使邏輯芯片能夠與目前正在量產(chǎn)的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統(tǒng)提供的優(yōu)勢可能會挑戰(zhàn)價值 1.5 億美元的機器，這些機器在當今先進的芯片制造中占據(jù)主導地位，即極紫外 （EUV） 光刻掃描儀。如果佳能是正確的，其機器最終將以極低的成本提供 EUV 質(zhì)量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統(tǒng)完全不同，后者完全由總部位于荷
  • 關鍵字： 納米壓印光刻技術(shù)  EUV?  佳能  新芯片制造系統(tǒng)  

中芯沒EUV是好事？外媒爆自產(chǎn)DUV大突破

  • 荷蘭芯片設備制造巨擘ASML執(zhí)行長?？耍–hristophe Fouquet）表示，盡管中國大陸企業(yè)如中芯國際近年來在半導體領域有顯著進展，但由于無法取得最先進的極紫外光微影設備（EUV），芯片制程技術(shù)仍落后臺積電、三星等代工龍頭約10至15年。Tom's Hardware報導，福克接受荷蘭《鹿特丹商報》（NRC）采訪時指出，中芯國際和華為僅使用深紫外光曝光設備（DUV），在成本效益上無法與臺積電的制程技術(shù)相提并論。他認為，美國政府祭出的禁止EUV出口中國大陸禁令確實有效，讓中國落后西方約15 年
  • 關鍵字： EUV  DUV  ASML  

移遠通信高性能5G-A模組RG650V-NA通過北美兩大重要運營商認證

  • 近日，全球領先的物聯(lián)網(wǎng)整體解決方案供應商移遠通信宣布，其旗下符合3GPP R17標準的新一代5G-A模組RG650V-NA成功通過了北美兩家重要運營商認證。憑借高速度、大容量、低延遲、高可靠等優(yōu)勢，該模組可滿足CPE、家庭/企業(yè)網(wǎng)關、移動熱點、高清視頻直播等FWA應用對高速、穩(wěn)定5G網(wǎng)絡的需求。移遠通信高性能5G-A模組RG650V-NA通過北美兩大重要運營商認證此前，RG650V系列已通過了北美FCC、PTCRB以及GCF全球認證，此次再獲北美兩項認證，表明該模組已全面取得北美運營商的認可，標志著搭
  • 關鍵字： 移遠通信  5G-A模組  RG650V-NA  

ASML凈銷售額75億歐元，凈利潤為21億歐元，預計2024年全年凈銷售額約為280億歐元

  • 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2024年第三季度財報。2024年第三季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額75億歐元，毛利率為50.8%，凈利潤達21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2，其中14億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間，毛利率介于49%到50%，2024年全年的凈銷售額約為280歐元。ASML還預計，2025年的凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%到53%。ASML 2024年第三季度財報一覽（除非特別說明，數(shù)字均以百萬歐元
  • 關鍵字： ASML  EUV  光刻機  

安霸與路特斯合作開發(fā)人工智能4D成像雷達，以支持純電Hyper SUV中搭載的L2級+高級自動駕駛系統(tǒng)

  • 此次合作旨在利用安霸先進的Oculii人工智能4D成像雷達技術(shù)，提高路特斯電動汽車的安全性Source:Getty Images在9月24日發(fā)布的一篇新聞稿中，安霸宣布將與路特斯科技公司合作，展示了其Oculii人工智能4D成像雷達技術(shù)的安全性。該技術(shù)現(xiàn)已集成至2023款和2024款路特斯Eletre電動超跑SUV以及2024款路特斯Emeya純電超跑GT車型中。此次合作旨在通過利用超過300米的超長探測距離，提升包括高速公路和城市自主領航（NOA）及自動緊急制動（AEB）等半自動駕駛系統(tǒng)的能力。該系統(tǒng)在
  • 關鍵字： 安霸  路特斯  4D成像雷達  Hyper SUV  2級+  

英特爾計劃與日本 AIST 合作建立芯片研究中心

  • IT之家 9 月 3 日消息，日經(jīng)報道稱，英特爾將與日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所（AIST）在日本建立芯片研發(fā)基地，新設施將在三到五年內(nèi)建成，配備極紫外線光刻（EUV）設備。▲ 圖源：英特爾設備制造商和材料公司將付費使用該設施進行原型設計和測試。據(jù)介紹，這將是日本第一個行業(yè)成員能夠共同使用極紫外光刻設備的中心。IT之家查詢獲悉，產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所隸屬經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省，是日本一家設法使用集成科學和工程知識來解決日本社會和經(jīng)濟發(fā)展需要的研究機構(gòu)，總部位于東京，2001 年成為獨立行政機構(gòu)的一個新設計的法律機構(gòu)。
  • 關鍵字： 英特爾  AIST  芯片  EUV  

imec采用High-NA EUV技術(shù) 展示邏輯與DRAM架構(gòu)

  • 比利時微電子研究中心（imec），在荷蘭費爾德霍溫與艾司摩爾（ASML）合作建立的高數(shù)值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影實驗室中，利用數(shù)值孔徑0.55的極紫外光曝光機，發(fā)表了曝光后的圖形化組件結(jié)構(gòu)。在單次曝光后，9納米和5納米（間距19納米）的隨機邏輯結(jié)構(gòu)、中心間距為30納米的隨機通孔、間距為22納米的二維特征，以及間距為32納米的動態(tài)隨機存取內(nèi)存（DRAM）專用布局全部成功成形，采用的是由imec與其先進圖形化研究計劃伙伴所優(yōu)化的材料和基線制程。透過這些研究成果，imec證實該微影技術(shù)的生態(tài)系
  • 關鍵字： imec  High-NA  EUV  DRAM  

極紫外光刻新技術(shù)問世，大幅降本增效

  • 日本沖繩科學技術(shù)大學院大學設計了一種極紫外（EUV）光刻技術(shù)，超越了半導體制造業(yè)的標準界限。
  • 關鍵字： EUV  
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