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cmos-mems 文章 最新資訊

如何構(gòu)建基于一個(gè)CMOS單防區(qū)報(bào)警器

  •  如何構(gòu)建基于一個(gè)CMOS單防區(qū)報(bào)警器  說明  該電路具有自動(dòng)出入延誤 - 計(jì)時(shí)鐘切斷 - 和系統(tǒng)重置。它為常開和常閉開關(guān)提供 - 并將滿足通常的輸入設(shè)備(壓力墊,磁簧接觸,鋁箔膠帶,PIRs和慣性傳感器)?! ∪绻G
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全硅MEMS振蕩器和傳統(tǒng)石英的區(qū)別

  •   如果說很多人把MCU或SoC主芯片比喻為現(xiàn)代電子系統(tǒng)的大腦,那么時(shí)鐘組件當(dāng)之無愧是其心臟。無論是電子工程師還是元器件采購者,在選擇時(shí)鐘組件時(shí)都會(huì)經(jīng)過全面嚴(yán)謹(jǐn)?shù)脑u(píng)估。因?yàn)橐活w健康、穩(wěn)定、持久的“心臟
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智能手機(jī)帶動(dòng)MEMS傳感器市場

  •   智能手機(jī)應(yīng)用軟件日益龐大的生態(tài)系統(tǒng)很大程度上要?dú)w功于MEMS傳感器。事實(shí)上,由于智能手機(jī)永遠(yuǎn)在線的互聯(lián)網(wǎng)訪問和傳感器技術(shù)的不斷發(fā)展,智能手機(jī)正在快速變成地球上最大的無線傳感器網(wǎng)絡(luò)。   
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GLOBALFOUNDRIES聯(lián)盟SVTC加速M(fèi)EMS量產(chǎn)

  •   GLOBALFOUNDRIES今天宣布與SVTC 技術(shù)公司結(jié)成戰(zhàn)略聯(lián)盟,加速進(jìn)行微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的量產(chǎn)制造。這項(xiàng)合作著重于技術(shù)開發(fā)合作,將有助GLOBALFOUNDRIES達(dá)成目標(biāo),成為MEMS晶圓廠的領(lǐng)導(dǎo)者。  
  • 關(guān)鍵字: GLOBALFOUNDRIES  MEMS  

MEMS應(yīng)用和發(fā)展前景廣闊

  •   在二十世紀(jì)90年代早期,汽車安全氣囊系統(tǒng)就開始大量采用MEMS加速度計(jì)。在其后的十年中,MEMS技術(shù)的第二次應(yīng)用浪潮被掀起。期間,MEMS技術(shù)被大量應(yīng)用,產(chǎn)品種類逐漸增多,相關(guān)技術(shù)被應(yīng)用到各行各業(yè)。第二代技術(shù)和產(chǎn)品取代了前者,并很快成為主流。據(jù)統(tǒng)計(jì),汽車傳感器市場在2009年規(guī)模就達(dá)到了25億美元。2004至2009年間,全球汽車傳感器市場的年復(fù)合增長率已經(jīng)達(dá)到了9%左右。而今,第三次MEMS應(yīng)用浪潮正在逼近,越來越多的MEMS加速度計(jì)和陀螺儀將被用于更多更新的技術(shù)領(lǐng)域。  
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傳感器處于傳統(tǒng)型向新型轉(zhuǎn)型的發(fā)展階段

  •   近年來,傳感器正處于傳統(tǒng)型向新型傳感器轉(zhuǎn)型的發(fā)展階段。新型傳感器的特點(diǎn)是微型化、數(shù)字化、智能化、多功能化、系統(tǒng)化、網(wǎng)絡(luò)化,它不僅促進(jìn)了傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的改造,而且可導(dǎo)致建立新型工業(yè),是21世紀(jì)新的經(jīng)濟(jì)增長點(diǎn)。微型化是建立在微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)基礎(chǔ)上的,目前已成功應(yīng)用在硅器件上形成硅壓力傳感器。   微電子機(jī)械加工技術(shù),包括體微機(jī)械加工技術(shù)、表面微機(jī)械加工技術(shù)、LIGA技術(shù)(X光深層光刻、微電鑄和微復(fù)制技術(shù))、激光微加工技術(shù)和微型封裝技術(shù)等。   MEMS的發(fā)展,把傳感器的微型化、智能化、多功能化
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采用單一CMOS的電感測試儀的制作方案

  • 這個(gè)測試儀的基礎(chǔ)是一個(gè)皮爾茲CMOS緩沖振蕩器(圖一)。這種振蕩器采用單一CMOS逆變偏頻在其線性區(qū)域通過電阻R1 以形成一個(gè)高增益反相放大器。由于這個(gè)高增益,這個(gè)逆變器比一個(gè)非緩沖門消耗的功率低,甚至是很小的信
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日立將使用MEMS技術(shù)制造平板顯示器

  •   Hitachi Displays今天在日本CEATEC展會(huì)公布了新的顯示屏技術(shù)MEMS,日立展示了一款2.5英寸320x240分辨率的原型產(chǎn)品,它結(jié)合了TFT技術(shù)和MEMS數(shù)字微快門技術(shù),提供更高的顯示效率和較小的能源消耗,功耗約為傳統(tǒng)液晶顯示器的一半并擁有更寬的色域,除此之外新的技術(shù)還淘汰了一些成本較高的液晶顯示器所需材料和部件,包括彩色濾光片,偏光片等。預(yù)計(jì)這種顯示器將在2012年年初出貨。
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傳感器處于傳統(tǒng)型向新型轉(zhuǎn)型的發(fā)展階段

  •   近年來,傳感器正處于傳統(tǒng)型向新型傳感器轉(zhuǎn)型的發(fā)展階段。新型傳感器的特點(diǎn)是微型化、數(shù)字化、智能化、多功能化、系統(tǒng)化、網(wǎng)絡(luò)化,它不僅促進(jìn)了傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的改造,而且可導(dǎo)致建立新型工業(yè),是21世紀(jì)新的經(jīng)濟(jì)增長點(diǎn)。微型化是建立在微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)基礎(chǔ)上的,目前已成功應(yīng)用在硅器件上形成硅壓力傳感器。   微電子機(jī)械加工技術(shù),包括體微機(jī)械加工技術(shù)、表面微機(jī)械加工技術(shù)、LIGA技術(shù)(X光深層光刻、微電鑄和微復(fù)制技術(shù))、激光微加工技術(shù)和微型封裝技術(shù)等。   MEMS的發(fā)展,把傳感器的微型化、智能化、多功能化
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一種新型高精度CMOS帶隙基準(zhǔn)源的設(shè)計(jì)

  • 提出一種標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝結(jié)構(gòu)的低壓、低功耗電壓基準(zhǔn)源,工作電壓為5~10 V。利用飽和態(tài)MOS管的等效電阻特性,對(duì)PTAT基準(zhǔn)電流進(jìn)行動(dòng)態(tài)電流反饋補(bǔ)償,設(shè)計(jì)了一種輸出電壓為1.3 V的帶隙基準(zhǔn)電路。使輸出基準(zhǔn)電壓溫度系數(shù)在-25~+120℃范圍的溫度系數(shù)為7.427pp-m/℃,在27℃時(shí)電源電壓抑制比達(dá)82 dB。該基準(zhǔn)源的芯片版圖面積為0.022 mm2,適用于低壓差線性穩(wěn)壓囂等領(lǐng)域。
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全新APS C格式1600萬像素圖像傳感器進(jìn)入數(shù)碼單反相機(jī)市場

  •   CMOS成像技術(shù)的領(lǐng)先創(chuàng)新者ApTIna今日推出其高性能、功能豐富、APS-C格式的1600萬像素的圖像傳感器。特別的設(shè)計(jì)令該產(chǎn)品可實(shí)現(xiàn)專業(yè)攝影師所要求的高畫質(zhì),除了以10幀/秒的速度捕捉1600萬像素的靜態(tài)圖像以外,新的MT9H004傳感器亦具備較高的靈敏度、較小的暗電流和較低的讀出噪聲。憑借該公司最新的動(dòng)態(tài)響應(yīng)(DR)像素技術(shù)創(chuàng)新(稱為Aptina DR-Pix技術(shù)),新的APS-C格式成像解決方案在低亮度條件下可增加5分貝的信噪比(SNR),而無需犧牲高亮度環(huán)境中的表現(xiàn)。高亮度下的最大信噪比可達(dá)
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MEMS加速汽車電子產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展

  •   在二十世紀(jì)90年代早期,汽車安全氣囊系統(tǒng)就開始大量采用MEMS加速度計(jì)。在其后的十年中,MEMS技術(shù)的第二次應(yīng)用浪潮被掀起。期間,MEMS技術(shù)被大量應(yīng)用,產(chǎn)品種類逐漸增多,相關(guān)技術(shù)被應(yīng)用到各行各業(yè)。第二代技術(shù)和產(chǎn)品取代了前者,并很快成為主流。據(jù)統(tǒng)計(jì),汽車傳感器市場在2009年規(guī)模就達(dá)到了25億美元。2004至2009年間,全球汽車傳感器市場的年復(fù)合增長率已經(jīng)達(dá)到了9%左右。而今,第三次MEMS應(yīng)用浪潮正在逼近,越來越多的MEMS加速度計(jì)和陀螺儀將被用于更多更新的技術(shù)領(lǐng)域。   第三次應(yīng)用浪潮的臨近
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CMOS技術(shù)將迎來轉(zhuǎn)折點(diǎn) 開始從15nm工藝向立體晶體管過渡

  •   邏輯LSI的基本元件——CMOS晶體管的發(fā)展估計(jì)將在2013年前后15nm工藝達(dá)到量產(chǎn)水平時(shí)迎來重大轉(zhuǎn)折點(diǎn)。將由現(xiàn)行的平面型晶體管向具備三維溝道的立體型晶體管過渡。美國英特爾及臺(tái)灣臺(tái)積電(TSMC)等知名半導(dǎo)體廠商均已開始表現(xiàn)出這種技術(shù)意向。LSI的制造技術(shù)發(fā)生巨變之后,估計(jì)也會(huì)對(duì)各公司的微細(xì)化競爭帶來影響。   元件材料及曝光技術(shù)也會(huì)出現(xiàn)轉(zhuǎn)折   “估計(jì)一多半的半導(dǎo)體廠商都會(huì)在15nm工藝時(shí)向FinFET過渡”(英特爾)。“在20nm以
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SiTime 擴(kuò)展時(shí)鐘產(chǎn)品系列,新增業(yè)界第一款千赫可編程全硅MEMS振蕩器

  •   全硅MEMS時(shí)鐘方案領(lǐng)導(dǎo)公司SiTime Corporation今天針對(duì)音響,微控制器和工控醫(yī)療等高可靠性應(yīng)用領(lǐng)先推出業(yè)界第一款編號(hào)為SiT8503的千赫(kHz)可編程全硅MEMS振蕩器。SiTime具有業(yè)界最為完整的全硅MEMS兆赫(megahertz, 或MHz)頻率時(shí)鐘產(chǎn)品系列, 包括了差分振蕩器(differential oscillators), 時(shí)鐘產(chǎn)生器(clock generators), 壓控振蕩器(VCXOs), 擴(kuò)頻時(shí)鐘產(chǎn)品(spread spectrum timing pro
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