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一種基于FPGA的B超數(shù)字波束形成技術

作者:王國賓 時間:2012-02-20 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

  摘要:論述了一種運行在芯片上應用于B超的全形成技術。采用孔徑變跡、幅度加權變跡和動態(tài)變跡相結合的綜合變跡技術和動態(tài)聚焦技術,兩種技術均形成直觀的數(shù)學模型,在上的實現(xiàn)方法類似,先將數(shù)學模型數(shù)字化,然后計算出數(shù)據(jù)表存入ROM,運行時將ROM中提取的數(shù)據(jù)與輸入數(shù)據(jù)進行運算,即可得到預期的輸出數(shù)據(jù)。在Matlab仿真和樣機測試中達到了很好的抑制旁瓣和動態(tài)聚焦效果,提高了波束形成的精度。

本文引用地址:http://www.bjwjmy.cn/article/129212.htm

  引言

  在線陣、凸陣、環(huán)形陣及相控陣式B超儀中,電子聚焦、變跡及方向控制等技術對回波信號的波束特性具有很大影響,是影響波束特性的主要因素,這些技術被綜合稱之為波束形成技術。老式的B超通常采用模擬波束形成方式,即每個陣元所接收的信號經(jīng)前置放大及模擬延遲線適當延遲后疊加起來,也就是說,電子聚焦、變孔徑方向控制及變跡等都是在模擬信號控制下完成的。這種方式因器件的準確度不夠(如延遲時間、放大器增益等)、阻抗不匹配、引起插入損耗、參數(shù)容易產(chǎn)生漂移及惡化、引入噪聲等,使儀器的整機分辨力等特性難以達到更高的水平。本文介紹的形成技術是利用芯片通過軟件程序準確地控制延時時間,從而獲得最佳的電子聚焦、變跡、方向控制等方面的效果,最終達到提高儀器整體性能的目的。

  形成理論及算法基礎

  動態(tài)變跡(Dynamic Apodization)

  在醫(yī)學超聲系統(tǒng)中,主波束寬度、旁瓣級大小、能獲得的信號動態(tài)范圍是影響超聲信號與圖像質(zhì)量的三個重要的因素。在超聲設備中進行變跡處理主要是用來抑制旁瓣的影響。實現(xiàn)變跡的方法通常有孔徑變跡、幅度加權變跡、動態(tài)變跡等幾種。(1)幅度變跡:是指在信號接收處理過程中對中心振元信號賦予較大的權值,向兩邊權值逐漸減小,然后各振元輸出信號進行加權求和,進而抑制旁瓣和柵瓣的影響。(2)孔徑變跡是指在發(fā)射和接收過程中分別采用不同的孔徑在保持發(fā)射和接收波束方向一致的條件下,使發(fā)射和接收的旁瓣峰值相互錯開,由此來抑制旁瓣。(3)在接收過程中,采用幅度加權變跡處理后,抑制旁瓣的效果隨產(chǎn)生回波信號的深度而變化。在變跡有效的掃查深度附近一個小范圍內(nèi)能很好地抑制旁瓣,在其他區(qū)域效果會明顯下降。這樣,根據(jù)回波到達換能器時間先后順序,同步動態(tài)地改變變跡函數(shù),及各通道的加權系數(shù),可使抑制旁瓣的有效深度由淺漸深地實時根據(jù)回波深度的變化而變化,使系統(tǒng)在掃查范圍內(nèi)都具有最佳的抑制旁瓣的性能。在全數(shù)字波束形成系統(tǒng)中,通常將幅度變跡、孔徑變跡和動態(tài)變跡結合使用,來達到更好的抑制旁瓣的效果。

  



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