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俄羅斯自研光刻機目標:2024年量產350nm,2026年量產65nm!

發(fā)布人:芯智訊 時間:2023-11-11 來源:工程師 發(fā)布文章

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11月4日消息,根據俄羅斯媒體報道指出,俄羅斯本身正在研發(fā)生產芯片的光刻機。俄羅斯工業(yè)和貿易部副部長Vasily Shpak在接受媒體采訪時指出,2024年將開始生產350nm光刻機,2026年啟動用于生產130nm制程芯片的光刻機。光刻機的生產將在莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡和新西伯利亞的現(xiàn)有工廠進行。

Vasily Shpak指出,光刻機對于半導體的生產極為重要,當前全球只有荷蘭ASML和日本Nikon這兩家公司能夠生產先進光刻機。一個簡單的邏輯就是,如果沒有半導體主權,那就沒有技術主權,這將導致國防安全和政治主權方面就非常脆弱。而現(xiàn)在俄羅斯已經掌握了使用國外國光刻機制造65nm芯片的技術,但因為外國公司被禁止向俄羅斯出口先進的光刻機,所以俄羅斯也正在積極開發(fā)自己的光刻機。

Vasily Shpak表示,2024年俄羅斯將撥款2,114億盧布(約合人民幣166.16億元)用于國內電子產品的開發(fā),其將包括生產350nm制程芯片的光刻機,2026年將啟動用于生產130nm制程芯片的光刻機。而俄羅斯決定開發(fā)350nm到65nm光刻機的原因,在于這一技術范圍內的芯片多用于微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上,這些應用大約占據了整個市場的60%。所以,這類光刻機在全世界市場的需求量很大,并且將在至少10年內有持續(xù)的需求。

另外,當被問到可能遭遇的阻力時,Vasily Shpak說,“我不想抱怨,所有的問題都不是問題,因為這關系到我們擁有哪些機會,以及所設定的目標?!?/p>

編輯:芯智訊-林子


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關鍵詞: 芯片

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