臺(tái)積電重申1.4nm級(jí)工藝技術(shù)不需要高數(shù)值孔徑EUV

• 臺(tái)積電在阿姆斯特丹舉行的歐洲技術(shù)研討會(huì)上重申了其對(duì)下一代高數(shù)值孔徑 EUV 光刻工具的長(zhǎng)期立場(chǎng)。該公司的下一代工藝技術(shù)不需要這些最高端的光刻系統(tǒng)，包括 A16（1.6 納米級(jí)）和 A14（1.4 納米級(jí)）工藝技術(shù)。為此，TSMC 不會(huì)為這些節(jié)點(diǎn)采用 High-NA EUV 工具?！爱?dāng)臺(tái)積電使用 High-NA 時(shí)，人們似乎總是很感興趣，我認(rèn)為我們的答案非常簡(jiǎn)單，”副聯(lián)席首席運(yùn)營(yíng)官兼業(yè)務(wù)發(fā)展和全球銷(xiāo)售高級(jí)副總裁 Kevin Zhang 在活動(dòng)中說(shuō)。“每當(dāng)我們看到 High-NA 將提供有意義、可衡
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