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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 應用材料

應用材料公司建立SunFab技術中心加速太陽能創(chuàng)新

  • 　　近日，應用材料公司建立了SunFab技術中心——業(yè)內(nèi)最先進的新一代太陽能技術應用中心，為光伏電池的研發(fā)開創(chuàng)了新紀元。該中心位于德國Alzenau，面積2000平米，具有殿堂級的模塊制造設備，包括應用材料公司的PECVD(等離子加強化學氣相沉積)和ATON™ PVD(物理氣相沉積)系統(tǒng)、激光設備以及工廠自動化軟件等全系列能代表應用材料公司SunFab™大規(guī)模太陽能面板制造薄膜生產(chǎn)線的設備。 　　SunFab技術中心將成為應用材料公司主要的太陽能研發(fā)中心，專注于提高模塊的轉(zhuǎn)換效率
  • 關鍵字： 消費電子  SunFab  太陽能  應用材料  消費電子  

應用材料公司推出Centura Carina Etch系統(tǒng)克服高K介電常數(shù)

  • 近日，應用材料公司推出Centura® Carina™ Etch系統(tǒng)用于世界上最先進晶體管的刻蝕。運用創(chuàng)新的高溫技術，它能提供45納米及更小技術節(jié)點上采用高K介電常數(shù)/金屬柵極(HK/MG)的邏輯和存儲器件工藝擴展所必需的材料刻蝕輪廓，是目前唯一具有上述能力并可以用于生產(chǎn)的解決方案。應用材料公司的Carina技術具有獨一無二的表現(xiàn)，它能達到毫不妥協(xié)的關鍵刻蝕參數(shù)要求：平坦垂直，側(cè)邊輪廓不含任何硅材料凹陷，同時沒有任何副產(chǎn)品殘留物。 應用材料公司資深副總裁、硅系統(tǒng)業(yè)務
  • 關鍵字： 測試  測量  應用材料  晶體管  刻蝕  IC  制造制程  

應用材料公司推出整合的高K介電常數(shù)

  • 晶體管制造技術正迎來巨大的變化，柵極結(jié)構(gòu)上新材料和新工藝的整合運用使芯片速度更快，功耗更低，從而使摩爾定律得以延續(xù)。近日，應用材料公司推出了一系列已被全面驗證的生產(chǎn)工藝，幫助我們的客戶在大規(guī)模生產(chǎn)中制造高K介電常數(shù)/金屬柵極（HK/MG）結(jié)構(gòu)。 從45納米的邏輯芯片開始，由于晶體管的尺寸太小，傳統(tǒng)的柵極材料無法使用，過多的漏電流使晶體管發(fā)熱并消耗額外的能量。HK/MG結(jié)構(gòu)可以降低柵極漏電流100多倍，并大大加快晶體管的開關速度。舉個例子來說，如果2006年付運的所有微處理器都采用了HK/MG技術，那么一年
  • 關鍵字： 消費電子  應用材料  高K介電常數(shù)  元件  制造  

應用材料二季度凈利4.114億美元 獲利高于預期

  • 　　5月16日，全球最大芯片設備生產(chǎn)商應用材料(Applied Materials)周二公布，受益于記憶體芯片生產(chǎn)商資本支出增加，公司第二季獲利高于預期。數(shù)據(jù)顯示，公司第二季凈利為4.114億美元，合每股盈余(EPS)0.29美元，上年同期分別為4.128億美元和0.26美元。 　　此外，公司第二季營收為25.3億美元，較上年同期的22.5億美元增長13%。而分析師此前的平均預期為23.5億美元。 　　由于來自記憶體晶片生產(chǎn)商的訂單頗豐，應用材料及日本Tokyo Electron等其他芯片設備生產(chǎn)商
  • 關鍵字： 財報  應用材料  

應用材料推出45納米光掩膜刻蝕技術設備

  • 近日，應用材料公司宣布推出先進的AppliedCenturaTetraTMIII掩膜刻蝕設備，它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關重要的納米制造技術系統(tǒng)。TetraIII通過控制石英掩膜把刻槽深度控制在10Å以內(nèi)，同時把臨界尺寸損失減小到10nm以下，使客戶可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強有力的光學臨近修正技術。該系統(tǒng)為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術應用提供無差錯、高產(chǎn)能的刻蝕工藝。      
  • 關鍵字： 45納米  消費電子  應用材料  消費電子  

應用材料公司推出全新的Mariana刻蝕系統(tǒng)

  • 　　近日，應用材料公司推出了新的Applied Centura® Mariana™ Trench Etch系統(tǒng)，這是深槽刻蝕納米制造技術領域內(nèi)的一次重大飛躍。Mariana是第一個能夠刻蝕80:1長寬比深槽的系統(tǒng)，這個關鍵性能使客戶可以擴展DRAM電容到70nm技術節(jié)點。雙頻調(diào)諧功能夠精密控制刻蝕輪廓和臨界尺寸，使刻蝕深度不一致性小于2%。同時，系統(tǒng)獨特的等離子化學反應提供了全所未有的硬掩膜選擇性。 　　應用材料公司資深副總裁，刻蝕、清潔、前道和離子注入集團總經(jīng)理Tom St. De
  • 關鍵字： Mariana  刻蝕系統(tǒng)  應用材料  

應用材料公司300萬美元風險投資太陽能硅片制造商Solaicx

  • 近日，應用材料公司風險投資基金Applied Ventures, LLC宣布向Solaicx公司投資300萬美元。該公司是一家太陽能光電行業(yè)低成本單晶硅硅片私人制造企業(yè)。Solaicx計劃把這筆投資用于擴展業(yè)務，在美國建造第二個制造廠，該工廠將于2007年開始運行。 Solaicx的技術基于擁有獨立產(chǎn)權(quán)的連續(xù)切克勞斯基（CZ法）晶體生長方法，實現(xiàn)了用于生成太陽能硅片的低成本高質(zhì)量硅錠的高產(chǎn)量生產(chǎn)。Solaicx晶體生長設備的生產(chǎn)能力預計將比以前為半導體行業(yè)設計的傳統(tǒng)CZ法系統(tǒng)高出5倍。
  • 關鍵字： Solaicx  單片機  電源技術  風險投資  硅片制造商  模擬技術  嵌入式系統(tǒng)  太陽能  應用材料  

應用材料為8.5代平面顯示器制造商推出高產(chǎn)能生產(chǎn)系統(tǒng)

  • 應用材料公司平面顯示事業(yè)部AKT近日宣布推出第一批在全球最大的8.5代（2.2米x~2.5米）玻璃基板上制造大尺寸LCD電視屏幕的平面顯示器生產(chǎn)系統(tǒng)。全新設計的AKT-55K EBT (電子束檢測)，AKT-55K PECVD(等離子加強化學氣相沉積)和AKT- NEW ARISTO™ 2200彩色濾光板濺射系統(tǒng)在8.5代基板上實現(xiàn)了制造6塊55英寸LCD電視屏的高效率生產(chǎn)。 新的8.5代基板將會對TFT*-LCD電視市場的增長做出貢
  • 關鍵字： 8.5代平面顯示器  工業(yè)控制  生產(chǎn)系統(tǒng)  消費電子  應用材料  制造商  工業(yè)控制  

美材料公司稱首款45納米IC07年將面市

  •     據(jù)臺灣媒體報道，美國應用材料公司日前在舊金山舉行的美國國際半導體設備及材料展覽會上推出了好幾款新型制造工具，并表示全球首款采用45納米制程工藝生產(chǎn)的IC(集成電路)應該可以于2007年擺上貨架，另外以32納米節(jié)點生產(chǎn)的芯片將只能在2007年之后推出。 　　應用材料公司總裁兼首席執(zhí)行官Michael R. Splinter表示，最近從客戶那兒收到的反饋信息顯示，客戶對采用90納米以下制程工藝生產(chǎn)的產(chǎn)品感到非常滿意。首批采用45納米制程工藝生產(chǎn)的芯片應
  • 關鍵字： IC  應用材料  

應用材料公司希望2010年前在華銷售翻一倍

  • 應用材料（Applied Materials）高級官員周四表示，希望2006財年在中國的銷售能實現(xiàn)增長，并且在2010年以前將銷售收入提高一倍，達到20億美元。應用材料2005年在中國的銷售收入出現(xiàn)了下滑。     在中國的銷售2004財年占到了應用材料收入的12%。應用材料三月警告說，今年對中國客戶的銷售將下降，因為中國芯片制造商在兩年的快速擴展后削減了開支。應用材料亞洲主管大衛(wèi)-王表示，長期前景仍然樂觀。他說：“我們2000年在中國首次實現(xiàn)了一億美元年
  • 關鍵字： 應用材料  
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應用材料介紹

應用材料公司是全球最大的納米制造技術企業(yè)。作為電子產(chǎn)業(yè)中最大的設備、服務和軟件產(chǎn)品供應商，我們用納米制造技術改善人們的生活。 　　自1967年成立至今三十多年來，應用材料公司一直都是領導信息時代的先驅(qū)，以納米制造技術打造世界上每一塊半導體芯片和平板顯示器。目前，應用材料已進入太陽能面板和玻璃面板的生產(chǎn)設備領域。 　　應用材料公司在全球13個國家和地區(qū)的生產(chǎn)、銷售和服務機構(gòu)有1 [ 查看詳細 ]

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