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首爾半導體和飛利浦達成交叉許可協(xié)議

—— 雙方能共享對方LED技術相關專利目錄中的很大部分
作者: 時間:2011-12-04 來源:半導體制造 收藏

  日前,韓國首爾宣布與皇家飛利浦電子公司達成技術領域專利交叉許可協(xié)議。此協(xié)議解決了懸而未決的法律案件,進入一個覆蓋涉及兩家公司特定技術領域的專利的交叉許可協(xié)議。根據(jù)這項協(xié)議,雙方能共享對方技術相關專利目錄中的很大部分。

本文引用地址:http://www.bjwjmy.cn/article/126595.htm

  相關人士表示,“作為交叉許可協(xié)議其詳細信息通常是保密的,我們雙方也都同意不披露協(xié)議中的具體內(nèi)容。”這項協(xié)議進一步證實了作為一個全球LED企業(yè)領導LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展。我們現(xiàn)在專注LED創(chuàng)新技術,并且不斷推動質量和價值。通過和飛利浦簽訂專利交叉許可協(xié)議與建立合作關系,首爾半導體期望其技術可以在全球靈活使用,以滿足世界各地客戶的需要。

  此外,(John Bae)副總裁強調說:“首爾半導體最近推出Acrich 2,正在市場上得到突破性的反應,加上此次的專利交叉許可協(xié)議不僅可以增加銷售業(yè)績而且也能在LED領域中確保穩(wěn)固地位。首爾半導體作為尊重專利的企業(yè),日后為保護自己員工和很多投資者的專利權而與任何企業(yè)強力對應。”

  首爾半導體作為領導全球LED技術的企業(yè),通過先前簽訂的專利協(xié)議確保其技術自由性并確保未來產(chǎn)品能脫穎而出。



關鍵詞: 首爾半導體 LED

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