而與此同時(shí)，韓國(guó)專利廳申請(qǐng)的半導(dǎo)體專利由 2003 年的 21.2% 降至去年的 2.4%。在2018-2022 年間，中國(guó)在 IP5 中半導(dǎo)體專利申請(qǐng)數(shù)排名第一，為135428 件，遠(yuǎn)超排名第二的美國(guó)（87573 件）和排名第三的韓國(guó)（18911 件），中國(guó)申請(qǐng)的半導(dǎo)體專利數(shù)量較 20 年前（2003-2007 年）增加了近 5 倍。

在過(guò)去 10 年內(nèi)，中國(guó)不僅在半導(dǎo)體小部件（材料、零件、裝備）領(lǐng)域，還在舊型通用半導(dǎo)體和最尖端半導(dǎo)體等領(lǐng)域紛紛獲得了技術(shù)專利。這種專利申請(qǐng)的快速增長(zhǎng)表明中國(guó)在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的技術(shù)實(shí)力正在迅速增強(qiáng)。但中國(guó)的半導(dǎo)體專利被引用指數(shù)（CPP）為 2.89，低于美國(guó)（6.96）和韓國(guó)（5.15）。這可能意味著盡管中國(guó)在半導(dǎo)體技術(shù)方面取得了進(jìn)展，但其技術(shù)的質(zhì)量和影響力可能與美國(guó)和韓國(guó)還有一定差距。

總的來(lái)說(shuō)，中國(guó)在半導(dǎo)體專利申請(qǐng)方面的崛起是一個(gè)不可忽視的現(xiàn)象。它不僅展示了中國(guó)在半導(dǎo)體技術(shù)方面的進(jìn)步，也反映了全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局正在發(fā)生變化。然而，要保持和進(jìn)一步提高技術(shù)質(zhì)量，中國(guó)還需要在研發(fā)和創(chuàng)新方面做出更多努力。

來(lái)源：EETOP

--End--