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全球首發(fā) | 全新一代SiC晶體生長(zhǎng)熱場(chǎng)材料

發(fā)布人:旺材芯片 時(shí)間:2023-05-05 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章
來(lái)源:芯TIP

隨著導(dǎo)電型SiC襯底的逐漸量產(chǎn),對(duì)工藝的穩(wěn)定性、可重復(fù)性都提出更高的要求。特別是缺陷的控制,爐內(nèi)熱場(chǎng)微小的調(diào)整或漂移,都會(huì)帶來(lái)晶體的變化或缺陷的增加。后期,更要面臨“長(zhǎng)快、長(zhǎng)厚、長(zhǎng)大”的挑戰(zhàn),除了理論和工程的提高外,還需要更先進(jìn)的熱場(chǎng)材料作為支撐。


因此,「用」先進(jìn)材料,「長(zhǎng)」先進(jìn)晶體勢(shì)在必行。


但是,熱場(chǎng)中坩堝的材料,石墨、多孔石墨、碳化鉭粉等使用不當(dāng),會(huì)帶來(lái)碳包裹物增多等缺陷。另外在有些應(yīng)用場(chǎng)合,多孔石墨的透氣率不夠,需要額外開(kāi)孔來(lái)增加透氣率。再者,透氣率大的多孔石墨,面臨加工、掉粉、蝕刻等挑戰(zhàn)。


基于此,恒普科技全球首發(fā)全新一代SiC晶體生長(zhǎng)熱場(chǎng)材料——多孔碳化鉭。


圖片


據(jù)恒普科技透露,碳化鉭的強(qiáng)度和硬度都很高,做成多孔狀,更是挑戰(zhàn)。做成孔隙率大、純度高的多孔碳化鉭更是極具挑戰(zhàn)。


恒普科技突破性的推出大孔隙率的多孔碳化鉭,孔隙率最大可以做到75%,處于國(guó)際領(lǐng)先水平


該多孔碳化鉭可應(yīng)用在氣相組元過(guò)濾,調(diào)整局部溫度梯度,引導(dǎo)物質(zhì)流方向,控制泄露等環(huán)節(jié)。值得一提的是,多孔碳化鉭還可與恒普科技另外一款固體碳化鉭(致密)或碳化鉭涂層,形成局部不同流導(dǎo)的構(gòu)件。此外,部分構(gòu)件可以重復(fù)使用,降低了耗材的使用成本。


技術(shù)參數(shù)

 孔隙率  ≤75%  (國(guó)際領(lǐng)先)

 形狀:片狀、筒狀 (國(guó)際領(lǐng)先)

 孔隙度均勻



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