?熱點(diǎn) | 臺(tái)積電繼續(xù)募資擴(kuò)產(chǎn)，晶圓代工廠軍備競(jìng)賽打響
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晶圓代工廠臺(tái)積電不斷投資啟動(dòng)新制程與產(chǎn)線，昨（3）日公告將發(fā)行今年度第4期無擔(dān)保普通公司債，總金額新臺(tái)幣139億元，籌得資金將用以新建擴(kuò)建廠房設(shè)備。
臺(tái)積電預(yù)計(jì)發(fā)行139億元無擔(dān)保普通公司債，包括5年期的甲類發(fā)行金額57億元，7年期的乙類發(fā)行金額63億元，10年期的丙類發(fā)行金額19億元。甲類固定年利率0.58%、乙類固定年利率0.65%、丙類固定年利率0.67%，群益金鼎證券為主辦承銷商。
臺(tái)積電指出，資金將用來新建、擴(kuò)建廠房設(shè)備。臺(tái)積電今年上半年已順利分3期完成600億元無擔(dān)保普通公司債發(fā)行，購置南部科學(xué)園區(qū)晶圓18廠設(shè)備。因應(yīng)產(chǎn)能擴(kuò)充及污染防治相關(guān)支出的資金需求，臺(tái)積電董事會(huì)5月又核準(zhǔn)在國內(nèi)市場(chǎng)募集無擔(dān)保普通公司債，額度不超過600億元。
不受大環(huán)境逆風(fēng)影響，臺(tái)積電因應(yīng)5G與高效能運(yùn)算強(qiáng)勁需求，持續(xù)積極研發(fā)投資，今年資本支出預(yù)計(jì)150億至160億美元。
法人認(rèn)為，臺(tái)積電5奈米已經(jīng)有蘋果、超微、高通等大客戶，車用元件大廠恩智浦也將在明年導(dǎo)入相關(guān)制程，訂單滿載使得臺(tái)積電積極擴(kuò)大5奈米產(chǎn)能，加上3奈米上半年試產(chǎn)，啟動(dòng)美國設(shè)廠等，預(yù)估臺(tái)積電明年資本支出仍會(huì)高于今年的150億美元至160億美元，再創(chuàng)歷史新高。
晶圓廠的軍備競(jìng)賽
在制造工藝演進(jìn)到10nm之后，晶圓廠都在為摩爾定律的繼續(xù)前進(jìn)而做各種各樣的努力，EUV則是被看作的第一個(gè)倚仗。而從EUV光刻機(jī)ASML的財(cái)務(wù)數(shù)據(jù)我們可以看到，其2019年Q4季度的財(cái)報(bào)中顯示，ASML全年EUV光刻機(jī)訂單量達(dá)到了62億歐元，總計(jì)出貨了26臺(tái)EUV光刻機(jī)，比2018年的18臺(tái)有了明顯增長，使得EUV光刻機(jī)的營收占比也從23%提升到了31%。同時(shí)，ASML還預(yù)計(jì)2020年，公司將交付35臺(tái)EUV光刻機(jī)，2021年則會(huì)達(dá)到45臺(tái)到50臺(tái)的交付量，是2019年的兩倍左右。
除了光刻機(jī)外，其他如刻蝕機(jī)等設(shè)備購買、工藝研發(fā)也都需要大量的資金，這就驅(qū)使這些廠商揮起了“金元大棒”。
2019年二季度，臺(tái)積電就宣布其利用EUV技術(shù)的7nm增強(qiáng)版(7nm+)開始量產(chǎn)，這是臺(tái)積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)。根據(jù)臺(tái)積電的發(fā)展進(jìn)程來看，其7nm以下的工藝也將導(dǎo)入EUV技術(shù)。據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道，臺(tái)積電5nm制程將于今年第二季度量產(chǎn)。據(jù)臺(tái)積電介紹， 5nm是臺(tái)積公司第二代使用極紫外光(EUV)技術(shù)的制程，其已展現(xiàn)優(yōu)異的光學(xué)能力與符合預(yù)期的良好芯片良率。
據(jù)悉，其 5nm 已于2019年三月進(jìn)入試產(chǎn)階段，預(yù)計(jì)將于2020年開始量產(chǎn)。同時(shí)，我們也知道，臺(tái)積電的多條產(chǎn)業(yè)已處于滿載狀態(tài)，訂單供不應(yīng)求，為了確保接下來7nm、5nm的供應(yīng)，臺(tái)積電也正在加快設(shè)備購買，除了ASML以外，受益的廠商還包括了KLA科磊、應(yīng)用材料等公司。而根據(jù)臺(tái)積電的投資計(jì)劃中看，臺(tái)積電在2020年的投資將達(dá)到150-160億美元，也是臺(tái)積電史上最高的資本支出。據(jù)悉，在他們的投入中，80%的開支會(huì)用于先進(jìn)產(chǎn)能擴(kuò)增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先進(jìn)封裝及特殊制程。而先進(jìn)工藝中所用到的EUV極紫外光刻機(jī)，一臺(tái)設(shè)備的單價(jià)就可以達(dá)到1.2億美元，可見半導(dǎo)體設(shè)備也將是其投資中很重要的一部分。
其次，人力成本也是臺(tái)積電在先進(jìn)工藝上的又一重要投入。據(jù)相關(guān)媒體報(bào)道顯示，臺(tái)積電在勞動(dòng)部“臺(tái)灣就業(yè)通”網(wǎng)站大舉征才超過1,500多個(gè)職缺，涵蓋半導(dǎo)體工程師、設(shè)備工程師、光學(xué)工程師及制程技術(shù)員等，以支持5nm的發(fā)展。
為了保證資金充足，臺(tái)積電甚至多年來首次對(duì)外公開募資20億美元，以充實(shí)其彈****庫。
而一直將超越臺(tái)積電視為發(fā)展目標(biāo)的三星，近年來也在先進(jìn)工藝上不斷砸下重金。根據(jù)三星的規(guī)劃，他們打算在未來十年投資1160億美元，力爭成為世界級(jí)的存儲(chǔ)芯片、邏輯芯片領(lǐng)導(dǎo)者。按照三星的計(jì)劃，當(dāng)中有636億是用來做技術(shù)研發(fā)的，另外的五百多億是建設(shè)晶圓廠基礎(chǔ)設(shè)施。在這些銀元的支持下，三星也開啟了“買買買”。
在去年年底被傳向ASML下了一個(gè)15臺(tái)EUV光刻機(jī)訂單后，今年一月，又有纖細(xì)表示三星計(jì)劃斥資33.8億美元采購20臺(tái)EUV光刻機(jī)。據(jù)報(bào)道，這批EUV設(shè)備不僅會(huì)用于7/5nm等邏輯工藝，還會(huì)用在DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)上。
早前，三星還宣布，其位于華城的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)。據(jù)悉，V1廠為三星第一條專門生產(chǎn)EUV技術(shù)的生產(chǎn)線，該工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)的產(chǎn)品為7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝。按照三星的計(jì)劃，到2020年底V1生產(chǎn)線投資金額將達(dá)到60億美元，7nm以及先進(jìn)制程產(chǎn)能將比去年增加3倍。
在頭部晶圓代工廠商在7nm、5nm，甚至是3nm上交鋒的同時(shí)，大陸晶圓代工廠則在14nm工藝上取得了不錯(cuò)的成績。14nm雖然不是目前最先進(jìn)的工藝，但其可用于中高端AP/SoC、GPU、HPC、高性能ASIC、FPGA等制造環(huán)節(jié)，這些場(chǎng)景正符合未來人工智能及物聯(lián)網(wǎng)的核心應(yīng)用需求。因此，14nm還有很大的市場(chǎng)潛力。大陸代工廠也為14nm和下一階段的先進(jìn)工藝進(jìn)行了大量的投入。
2月18日，中芯國際對(duì)外披露了去年的重要設(shè)備交易，公告稱，2019年3月12日至2020年2月17日，公司向泛林團(tuán)體發(fā)出了用于生產(chǎn)晶圓的機(jī)器訂單，購買單總價(jià)約6億美元。根據(jù)公告，此次購買設(shè)備是為了應(yīng)對(duì)客戶的需要，擴(kuò)大其產(chǎn)能、把握市場(chǎng)商機(jī)及增長。
根據(jù)中芯國際的發(fā)展進(jìn)程來看，除了14nm及改進(jìn)型12nm工藝之外，今年底前中芯國際還會(huì)試產(chǎn)N+1代工藝，據(jù)中芯國際在其Q4財(cái)報(bào)會(huì)議上的消息顯示，N+1和7nm工藝非常相似，唯一區(qū)別在于性能方面，N+1工藝的提升較小，市場(chǎng)基準(zhǔn)的性能提升應(yīng)該是35%。
為了獲得更好的支持，中芯國際也在早前發(fā)行了六億美元的債券。
為了進(jìn)一步發(fā)展，中芯國際更是謀劃在科創(chuàng)板上市，并以創(chuàng)紀(jì)錄的過會(huì)和審核速度上市。根據(jù)招股書，中芯國際此次科創(chuàng)板計(jì)劃募資200億元，其中約40%資金用于12英寸芯片SN1項(xiàng)目（中芯南方一期），該12英寸晶圓廠，主要滿足中芯國際14納米及以下先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的研發(fā)和量產(chǎn)計(jì)劃而造，目前產(chǎn)能已達(dá)6000片/月，目標(biāo)產(chǎn)能是3.5萬片/月，投資總額達(dá)120.4億美元。
其他還有如華虹和華潤微電子等廠商為了擴(kuò)展其產(chǎn)能，斥巨資去興建新的晶圓廠，這樣算是積極投資的一種。因?yàn)樯婕暗捻?xiàng)目眾多，我們就不在這一一列舉。
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