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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 應(yīng)用材料公司

應(yīng)用材料公司攜精彩主題演講和成果展示亮相SEMICON China 2023

  • 2023年6月25日,上?!猄EMICON China 2023將于6月29日 -  7月1日在上海新國際博覽中心舉辦。同時(shí),中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)(CSTIC)2023將在6月26 - 27日在上海國際會(huì)議中心舉辦。作為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體和顯示設(shè)備供應(yīng)商,應(yīng)用材料公司將通過主題演講和論文展示等方式積極參與SEMICON China和CSTIC,內(nèi)容涵蓋異構(gòu)集成和功率電子等多個(gè)主題。 半導(dǎo)體是數(shù)字化轉(zhuǎn)型的重要基石,推動(dòng)了全球數(shù)字化浪潮奔涌向前。據(jù)第三方研究人員預(yù)計(jì),
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“應(yīng)用材料公司各美講堂”2023首講開幕 “應(yīng)用材料公司不東學(xué)堂”正式啟動(dòng)

  • 2023年5月27日—西安,伴隨著2023年西安市科技活動(dòng)周的舉辦,由陜西婦女兒童發(fā)展基金會(huì)、應(yīng)用材料中國公司聯(lián)合發(fā)起的“與絲路同行·應(yīng)用材料公司各美講堂”(以下簡稱“各美講堂”)2023年度系列人文藝術(shù)公益講座于今日在西安高新錢學(xué)森第二小學(xué)迎來本年度啟幕儀式暨首場大型公眾講座。現(xiàn)場,西北大學(xué)教授、博士生導(dǎo)師、西北大學(xué)中亞考古隊(duì)隊(duì)長,絲綢之路考古合作研究中心首席科學(xué)家王建新老師擔(dān)任開幕場主講人,并以《追尋張騫的足跡——絲綢之路與東西方文明》為主題拉開了2023年“各美講堂”的序幕。同時(shí),在西安市科學(xué)技術(shù)協(xié)
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應(yīng)用材料公司發(fā)布2023財(cái)年第二季度財(cái)務(wù)報(bào)告

  • ???? 收入66.3億美元,同比增長6%??? GAAP營業(yè)利潤率28.8%,非GAAP營業(yè)利潤率29.1%,同比均下降1.5個(gè)百分點(diǎn)??? GAAP每股盈余1.86美元,非GAAP每股盈余2美元,同比分別增長7%和8%??? 實(shí)現(xiàn)經(jīng)營活動(dòng)現(xiàn)金流22.9億美元?2023年5月18日,加利福尼亞州圣克拉拉——應(yīng)用材料公司(納斯達(dá)克:AMAT)公布了其截止于2023年4月30日的2023財(cái)年第二季度財(cái)務(wù)報(bào)告。
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SmartFactory AI建立您的競爭優(yōu)勢

  • 半導(dǎo)體制造業(yè)的迫切需求,對于那些有能力進(jìn)一步提高生產(chǎn)力和效率的晶圓廠來說,意味著巨大的機(jī)會(huì)。然而,現(xiàn)有的工具和方法限制了生產(chǎn)效率或KPI的提升水平。SmartFactory AI可以助您一臂之力。借助該系統(tǒng),晶圓廠可以通過端到端AI/ML模型的開發(fā)和部署,形成獨(dú)特的競爭優(yōu)勢,進(jìn)而使用新一代先進(jìn)智能算法應(yīng)對來自生產(chǎn)力和供應(yīng)鏈的挑戰(zhàn)。SmartFactory AI可解決影響晶圓廠生產(chǎn)效率和良率的兩項(xiàng)關(guān)鍵挑戰(zhàn):首先是與預(yù)測模型相關(guān)的挑戰(zhàn),比如批次生產(chǎn)周期、動(dòng)態(tài)瓶頸和良率預(yù)測;其次是尋找最佳邏輯或參數(shù)值,以更優(yōu)的
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應(yīng)用材料公司發(fā)布2023財(cái)年第一季度財(cái)務(wù)報(bào)告

  • ●? ?收入67.4億美元,同比增長7%●? ?GAAP營業(yè)利潤率29.2%,非GAAP營業(yè)利潤率29.5%,同比分別下降2.3%和2.2%●? ?GAAP每股盈余2.02美元,非GAAP每股盈余2.03美元,同比分別增長1%和7%●? ?實(shí)現(xiàn)經(jīng)營活動(dòng)現(xiàn)金流22.7億美元應(yīng)用材料公司近日公布了其截止于2023年1月29日的2023財(cái)年第一季度財(cái)務(wù)報(bào)告。2023財(cái)年第一季度業(yè)績應(yīng)用材料公司實(shí)現(xiàn)營收67.4億美元?;贕AAP(一
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應(yīng)用材料公司發(fā)布2020財(cái)年第一季度財(cái)務(wù)報(bào)告

  • 日前,應(yīng)用材料公司公布了其截止于2020年1月26日的2020財(cái)年第一季度財(cái)務(wù)報(bào)告。
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應(yīng)用材料公司發(fā)布2019財(cái)年第三季度財(cái)務(wù)報(bào)告

Applied NokotaTM電化學(xué)沉積系統(tǒng)助力先進(jìn)芯片封裝 

  • 作者 王宇  應(yīng)用材料公司日前宣布,面向晶圓級(jí)封裝(WLP)產(chǎn)業(yè)推出Applied Nokota?電化學(xué)沉積(Electrochemical Deposition, ECD)系統(tǒng),憑借優(yōu)秀的電化學(xué)沉積性能、可靠性、晶圓保護(hù)能力、可擴(kuò)展性,以及生產(chǎn)力,提供先進(jìn)封裝技術(shù)。在該系統(tǒng)的助力下,芯片制造商、外包裝配和測試(OSAT)企業(yè)將可通過低成本、高效率的方式使用不同的晶圓級(jí)封裝工藝,包括凸塊/柱狀、扇出、硅通孔(TSV)等等,滿足日益增多的移動(dòng)和高性能計(jì)算應(yīng)用需求?! ∠噍^于傳統(tǒng)封裝方案,全新晶圓級(jí)封裝系統(tǒng)可
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應(yīng)用材料公司推出先進(jìn)的化學(xué)氣相沉積薄膜技術(shù)

  • 2012年3月20日,上?!裉?,應(yīng)用材料公司宣布推出全新等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)薄膜技術(shù),用于制造適用于...
  • 關(guān)鍵字: 應(yīng)用材料公司  

應(yīng)材公司推出創(chuàng)新制造系統(tǒng) 滿足先進(jìn)觸控式面板需求

應(yīng)用材料公司榮獲天合光能2010年度供應(yīng)商獎(jiǎng)

  •   近日,領(lǐng)先的垂直一體化太陽能光伏組件制造企業(yè)天合光能有限公司在江蘇常州授予應(yīng)用材料公司2010年卓越貢獻(xiàn)—全球采購獎(jiǎng),表彰其為天合光能多個(gè)產(chǎn)能擴(kuò)充項(xiàng)目提供了及時(shí)的交付、卓越的產(chǎn)品和優(yōu)良的服務(wù)。這是應(yīng)用材料公司最近兩個(gè)月以來第三次以卓越的表現(xiàn)獲得中國主要光伏企業(yè)的褒獎(jiǎng)。   
  • 關(guān)鍵字: 應(yīng)用材料公司  光伏組件  

應(yīng)用材料公司推出等離子體強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

  •   近日,應(yīng)用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等離子體強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積) 系統(tǒng),它能實(shí)現(xiàn)在45納米及更小技術(shù)節(jié)點(diǎn)的器件上生產(chǎn)速度更快的晶體管所需要達(dá)到的應(yīng)力水平,是應(yīng)力工程技術(shù)(Strained engineering technology) 的一個(gè)巨大進(jìn)步。該系統(tǒng)結(jié)合應(yīng)用材料的Nanocure™ UV(紫外線)處理技術(shù)以及改進(jìn)型氮化物沉積反應(yīng)腔,把薄膜張力提高了超過30%,達(dá)到了業(yè)界領(lǐng)先的1.7GPa等級(jí),并可擴(kuò)展至超過2.
  • 關(guān)鍵字: 等離子體強(qiáng)化化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)  工業(yè)控制  應(yīng)用材料公司  等離子顯示  PDP  工業(yè)控制  

應(yīng)用材料公司推出關(guān)鍵性45納米光掩膜刻蝕技術(shù)設(shè)備

  •   近日,應(yīng)用材料公司宣布推出先進(jìn)的Applied Centura® TetraTMIII掩膜刻蝕設(shè)備,它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關(guān)重要的納米制造技術(shù)系統(tǒng)。Tetra III通過控制石英掩膜把刻槽深度控制在10 Å以內(nèi),同時(shí)把臨界尺寸損失減小到10nm以下,使客戶可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強(qiáng)有力的光學(xué)臨近修正技術(shù)。該系統(tǒng)為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術(shù)應(yīng)用提供無差錯(cuò)、高產(chǎn)能的刻蝕工藝。   應(yīng)用材料公司資深副總裁,刻蝕、清潔、前道
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應(yīng)用材料公司推出先進(jìn)的化學(xué)機(jī)械研磨拋光墊技術(shù)

  •  近日,應(yīng)用材料公司宣布為200mm CMP(化學(xué)機(jī)械研磨)系統(tǒng)推出創(chuàng)新的Applied DuraPad CMP(化學(xué)機(jī)械研磨)拋光墊技術(shù) 。DuraPad的使用壽命比現(xiàn)有的研磨墊至少延長了30%,有效地增加了機(jī)臺(tái)的有效使用時(shí)間,替客戶節(jié)約了可觀的擁有成本。在DuraPad制造過程中采用先進(jìn)的six-sigma 制造技術(shù)保證了研磨墊不同批次之間性能的一致性,從而確保獲得良好的CMP研磨效果。 應(yīng)用材料公司全球服務(wù)部總經(jīng)理兼資深副總裁Manfred
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應(yīng)用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機(jī)

  • 應(yīng)用材料公司推出業(yè)界最高產(chǎn)量CVD工藝主機(jī)- Applied Producer GT 近日,應(yīng)用材料公司宣布推出業(yè)界最快速最經(jīng)濟(jì)的CVD(化學(xué)氣相沉積)主機(jī) - Applied Producer® GT™,把硅片生產(chǎn)能力提升到了一個(gè)新的水平。該產(chǎn)品每小時(shí)可處理150片硅片,產(chǎn)量達(dá)到其他競爭系統(tǒng)的兩倍,從而降低了30%的擁有成本,并將單位面積每小時(shí)硅片處理數(shù)量提高了50%。Producer GT全面支持所有應(yīng)
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應(yīng)用材料公司介紹

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