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快速恢復二極管打火問題的優(yōu)化設計

作者: 時間:2013-05-15 來源:網絡 收藏

圖9 FRD原版模擬結果表面電場分布圖

4.3 新設計模擬

由以上分析認為,圓片測試打火的主要原因在金屬場板和截止環(huán)金屬之間電勢較大,引起金屬間打火,下一步主要從考慮降低兩者之間的電勢,減小金屬場板處的表面電場出發(fā),進行了以下模擬。

4.3.1增加兩個環(huán)

考慮在金屬場板前再增加兩個場限環(huán),使得前面的分壓增加,以減少金屬之間的電勢差,模擬結果如下,F(xiàn)RD擊穿電壓沒有改變,仍舊在1500V,金屬場板和截止環(huán)之間的電勢從800V降到約500V,表面電場從2.6E5V/cm降低到1.7E5V/cm。

圖10:FRD增加兩個環(huán)后結構

圖11 FRD增加兩個環(huán)后電勢分布圖

圖12 FRD增加兩個環(huán)后表面電場分布圖

4.3.2增加三個環(huán)

從增加兩個環(huán)的結果看,增加環(huán)后電勢和電場都有改善,于是考慮增加三個環(huán),模擬結果如下,F(xiàn)RD擊穿電壓沒有改變,仍舊在1500V, 金屬場板和截止環(huán)之間的電勢降為約400V,表面電場由2.6E5V/cm降低到1.2E5V/cm。

圖13 增加3個環(huán)后結構

圖14 增加三個環(huán)后電勢分布圖

圖15 增加三個環(huán)后表面電場分布圖

4 結論分析

從以上模擬結果可以看到,通過優(yōu)化終端結構,可以有效減少金屬之間電勢差,改善表面電場分布,從而改善圓片測試打火現(xiàn)象。同時,工藝上可考慮在增加環(huán)的同時增加金屬后鈍化層,以更好的改善產品性能。

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